Luận án tiến sĩ: Nghiên cứu động học quá trình lắng đọng lớp hấp thụ của pin mặt trời màng CIGS

"Luận án nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ của pin mặt trời màng CIGS trong phương pháp điện hóa. Đề xuất mô hình cải tiến hiệu suất của pin mặt trời."

Chuyên ngành
Vật lý nhiệt
Tác giả

Luan An

Thể loại

Luận án tiến sĩ

Năm xuất bản

Số trang

126

Thời gian đọc

19 phút

Lượt xem

0

Lượt tải

0

Phí lưu trữ

40 Point

Tổng quan nhanh

Chủ đề:
Động học lắng đọng CIGS: Nền tảng pin mặt trời màng mỏng
Số trang:
126 trang
Trường:
Trường Đại học Khoa học Tự nhiên, Đại học Quốc gia Hà Nội
Chuyên ngành:
Vật lý nhiệt
Năm:

Tóm tắt nội dung luận án

I.Động học lắng đọng CIGS Nền tảng pin mặt trời màng mỏng

Nghiên cứu này khám phá động học lắng đọng CIGS. Đây là vật liệu hấp thụ cốt lõi cho pin mặt trời màng mỏng CIGS. Lớp hấp thụ CIGS quyết định hiệu suất chuyển đổi quang điện của thiết bị. Việc hiểu rõ cơ chế lắng đọng CIGS là cực kỳ quan trọng để sản xuất hiệu quả. Phương pháp điện hóa được sử dụng để chế tạo các lớp màng mỏng CIGS. Kỹ thuật này mang lại nhiều ưu điểm về chi phí và khả năng kiểm soát. Nó cho phép kiểm soát chính xác các thông số quá trình. Điều này ảnh hưởng trực tiếp đến cấu trúc và đặc tính màng CIGS. Mục tiêu chính là tối ưu hóa lớp CIGS nhằm đạt hiệu suất cao. Nghiên cứu sâu về động học lắng đọng CIGS là trọng tâm chính. Nó giúp nâng cao công nghệ CIGS. Các kết quả có thể góp phần cải thiện đáng kể hiệu suất pin CIGS trong tương lai. Nắm vững quá trình lắng đọng tạo điều kiện thuận lợi cho phát triển vật liệu quang điện CIGS thế hệ mới.

1.1. Pin mặt trời màng mỏng CIGS Giới thiệu tổng quan

Pin mặt trời màng mỏng CIGS đang là trọng tâm của nhiều nghiên cứu. Chúng sở hữu tiềm năng lớn về hiệu suất chuyển đổi năng lượng. Công nghệ CIGS cung cấp giải pháp giảm chi phí sản xuất năng lượng sạch. Vật liệu quang điện CIGS nổi bật với khả năng hấp thụ ánh sáng mạnh trên dải phổ rộng. Điều này làm cho chúng trở thành một trong những công nghệ pin mặt trời triển vọng nhất. Cấu trúc cơ bản của pin CIGS thường bao gồm một lớp đế, lớp tiếp xúc sau, lớp hấp thụ CIGS, lớp đệm và lớp oxit dẫn điện trong suốt. Lớp hấp thụ CIGS là thành phần quan trọng nhất. Việc chế tạo lớp này với chất lượng cao là chìa khóa để đạt được hiệu suất tối ưu. Các ứng dụng của pin mặt trời CIGS rất đa dạng, từ hệ thống điện mặt trời quy mô lớn đến các thiết bị điện tử di động và linh hoạt. Việc tối ưu hóa lớp CIGS liên tục được tiến hành để đáp ứng nhu cầu thị trường.

1.2. Lớp hấp thụ CIGS Tầm quan trọng và thách thức

Lớp hấp thụ CIGS đóng vai trò trung tâm trong quá trình chuyển đổi quang điện. Lớp này hấp thụ các photon ánh sáng và tạo ra các cặp điện tử-lỗ trống. Sau đó, chúng được tách và thu thập để tạo ra dòng điện. Chất lượng của lớp CIGS ảnh hưởng trực tiếp đến các thông số hiệu suất của pin. Những thông số này bao gồm dòng điện ngắn mạch, điện áp hở mạch và hệ số điền đầy. Một thách thức lớn nằm ở việc kiểm soát chính xác thành phần hóa học của CIGS. Điều này ảnh hưởng đến độ rộng vùng cấm và tính chất điện. Kiểm soát cấu trúc tinh thể và hình thái bề mặt cũng rất quan trọng. Đồng thời, cần tối ưu hóa các đặc tính màng CIGS để đảm bảo hiệu suất quang điện tối ưu. Sự hiểu biết sâu sắc về động học lắng đọng CIGS là cần thiết. Nó giúp giải quyết những thách thức này, tạo ra vật liệu quang điện CIGS ổn định và hiệu quả.

1.3. Phương pháp điện hóa Ưu điểm chế tạo CIGS

Phương pháp điện hóa là một kỹ thuật chế tạo hứa hẹn cho lớp hấp thụ CIGS. Kỹ thuật này nổi bật với chi phí đầu tư thấp và khả năng mở rộng quy mô sản xuất dễ dàng. Điện hóa cho phép kiểm soát chính xác nhiều tham số quá trình. Những tham số này bao gồm thế điện cực, mật độ dòng điện, nhiệt độ dung dịch và nồng độ ion. Việc kiểm soát chặt chẽ các yếu tố này ảnh hưởng trực tiếp đến cơ chế lắng đọng CIGS. Nó giúp tạo ra vật liệu quang điện CIGS có thành phần và cấu trúc mong muốn. Các đặc tính màng CIGS được cải thiện đáng kể thông qua việc điều chỉnh các điều kiện lắng đọng. Từ đó, hiệu suất pin CIGS có thể được tối ưu hóa. Phương pháp điện hóa còn cho phép lắng đọng trên các đế linh hoạt. Điều này mở ra nhiều ứng dụng mới cho công nghệ CIGS.

II.Cơ chế lắng đọng CIGS Nâng cao hiểu biết vật liệu

Nghiên cứu tập trung vào cơ chế lắng đọng CIGS trong quá trình điện hóa. Việc này bao gồm cả động học lắng đọng CIGS của từng nguyên tố và các hợp chất. Hiểu rõ các phản ứng tại điện cực là rất cần thiết. Điều này ảnh hưởng đến sự hình thành pha và đặc tính màng CIGS cuối cùng. Các thử nghiệm được tiến hành để xác định vai trò của các tham số. Chúng bao gồm thế lắng đọng, nồng độ ion và chất tạo phức. Kết quả nghiên cứu cung cấp cái nhìn sâu sắc về cách các ion kim loại kết hợp thành vật liệu quang điện CIGS. Mục tiêu là phát triển phương pháp chế tạo CIGS ổn định và có thể tái lập. Từ đó, nâng cao hiệu suất pin CIGS. Cơ chế lắng đọng CIGS là yếu tố quyết định chất lượng lớp hấp thụ. Kiểm soát tốt cơ chế này sẽ dẫn đến tối ưu hóa lớp CIGS.

2.1. Động học điện cực Các quá trình cơ bản lắng đọng

Động học điện cực là nền tảng của quá trình lắng đọng điện hóa. Nó mô tả tốc độ và đường đi của các phản ứng tại bề mặt điện cực. Các quá trình này bao gồm sự khuếch tán ion, sự hấp phụ và giải hấp, và phản ứng chuyển điện tích. Việc nghiên cứu động học lắng đọng CIGS yêu cầu sự hiểu biết sâu sắc về các yếu tố này. Ví dụ, thế điện cực ảnh hưởng đến tốc độ khử ion kim loại. Nó cũng quyết định sự hình thành các pha khác nhau. Nhiệt độ và pH dung dịch cũng là những yếu tố quan trọng. Chúng tác động đến cân bằng hóa học và động lực học phản ứng. Nắm vững động học điện cực giúp kiểm soát tốt hơn phương pháp chế tạo CIGS. Từ đó, tạo ra các đặc tính màng CIGS mong muốn.

2.2. Cơ chế lắng đọng Cu Se Ảnh hưởng chất tạo phức

Cơ chế lắng đọng CIGS phức tạp, bắt đầu từ sự hình thành các hợp chất binary. Đặc biệt, sự lắng đọng của Cu-Se là bước đầu tiên quan trọng. Các nghiên cứu đã chỉ ra sự tạo pha CuSex diễn ra theo từng bước. Chất tạo phức, như axit sulfamic, đóng vai trò quan trọng. Nó điều chỉnh nồng độ ion kim loại tự do trong dung dịch. Điều này ảnh hưởng đến thế lắng đọng và động học lắng đọng CIGS. Axit sulfamic giúp kiểm soát quá trình lắng đọng CuSex. Nó ngăn chặn sự hình thành các pha không mong muốn. Điều này đảm bảo tạo ra vật liệu quang điện CIGS có chất lượng cao. Các đặc tính màng CIGS được cải thiện khi sử dụng chất tạo phức phù hợp. Nó cũng góp phần vào việc tối ưu hóa lớp CIGS.

2.3. Lắng đọng Ga Tạo pha CuGaSe2 trên đế Mo và ITO

Quá trình lắng đọng Ga là bước tiếp theo để tạo ra lớp hấp thụ CIGS hoàn chỉnh. Nghiên cứu đã tập trung vào việc lắng đọng Ga trên các đế Mo và ITO. Các đế này có tính chất điện hóa khác nhau. Sự lắng đọng của Ga thường diễn ra ở thế âm hơn so với Cu và Se. Điều này đòi hỏi sự điều chỉnh cẩn thận các điều kiện điện hóa. Sự hiện diện của Ga ảnh hưởng đến cơ chế lắng đọng CIGS tổng thể. Nó đặc biệt quan trọng trong việc hình thành pha tứ nguyên Cu(In,Ga)Se2. Việc kiểm soát sự lắng đọng Ga giúp tối ưu hóa thành phần Ga/In. Điều này ảnh hưởng trực tiếp đến độ rộng vùng cấm của vật liệu quang điện CIGS. Từ đó, cải thiện hiệu suất pin CIGS. Các kết quả CV và EQCM đã cung cấp thông tin chi tiết về quá trình này.

III.Kỹ thuật nghiên cứu CIGS Phân tích đặc tính màng

Nghiên cứu sử dụng nhiều kỹ thuật tiên tiến để phân tích đặc tính màng CIGS. Các phương pháp này cung cấp cái nhìn toàn diện về cấu trúc, hình thái và thành phần. Kỹ thuật Vol-Ampe Vòng (CV) giúp khảo sát các phản ứng điện hóa. Cân vi lượng tinh thể thạch anh trong điện hóa (EQCM) theo dõi động học lắng đọng CIGS theo thời gian thực. Ảnh hiển vi điện tử quét (SEM) và phổ tán sắc năng lượng (EDS) xác định hình thái bề mặt và thành phần nguyên tố. Nhiễu xạ tia X (XRD) tiết lộ cấu trúc tinh thể và các pha hình thành. Đo độ dày màng bằng Stylus Profiler cũng được thực hiện. Các kỹ thuật này giúp đánh giá hiệu quả của phương pháp chế tạo CIGS. Chúng là công cụ quan trọng để tối ưu hóa lớp CIGS và hiểu rõ vật liệu quang điện CIGS. Mỗi kỹ thuật bổ sung thông tin cần thiết. Điều này dẫn đến sự hiểu biết sâu sắc hơn về vật liệu. Từ đó, nâng cao chất lượng và hiệu suất pin CIGS.

3.1. Kỹ thuật Cyclic Voltammetry CV Khảo sát điện hóa

Kỹ thuật Cyclic Voltammetry (CV) là công cụ cơ bản trong điện hóa. Nó được sử dụng để khảo sát các quá trình oxy hóa-khử tại bề mặt điện cực. CV cung cấp thông tin về thế khử và oxy hóa của các ion. Nó cũng tiết lộ sự hình thành các hợp chất trung gian. Trong nghiên cứu này, CV giúp xác định các thế lắng đọng tối ưu. Nó cũng làm rõ các bước trong cơ chế lắng đọng CIGS. Các đường cong CV cho thấy sự tương tác giữa các ion Cu, In, Ga và Se. Việc phân tích kỹ lưỡng dữ liệu CV là cần thiết. Điều này giúp tối ưu hóa lớp CIGS. Nó cũng hỗ trợ phát triển phương pháp chế tạo CIGS hiệu quả. Các thông tin từ CV rất quan trọng. Nó giúp hiểu rõ hơn về động học lắng đọng CIGS.

3.2. Cân vi lượng tinh thể thạch anh EQCM Động học lắng đọng

Kỹ thuật EQCM là một công cụ mạnh mẽ để theo dõi động học lắng đọng CIGS. Nó đo sự thay đổi khối lượng trên bề mặt điện cực theo thời gian thực. Điều này xảy ra trong quá trình lắng đọng điện hóa. EQCM có độ nhạy rất cao. Nó có thể phát hiện sự thay đổi khối lượng ở mức nanogram. Kết hợp EQCM với CV cung cấp thông tin đồng thời về dòng điện và khối lượng. Dữ liệu này giúp xác định tỷ lệ lắng đọng của các nguyên tố. Nó cũng xác nhận sự hình thành các pha khác nhau. EQCM rất hữu ích trong việc nghiên cứu cơ chế lắng đọng CIGS. Nó cung cấp bằng chứng trực tiếp về sự tích tụ vật liệu. Điều này hỗ trợ việc tối ưu hóa lớp CIGS. Kết quả từ EQCM góp phần quan trọng vào việc hiểu vật liệu quang điện CIGS.

3.3. Phân tích cấu trúc hình thái SEM EDS và XRD

Để đánh giá đặc tính màng CIGS, các kỹ thuật phân tích cấu trúc và hình thái được áp dụng. Ảnh hiển vi điện tử quét (SEM) cung cấp hình ảnh chi tiết về bề mặt màng. Nó giúp quan sát kích thước hạt, độ xốp và độ đồng đều. Phổ tán sắc năng lượng (EDS) được sử dụng để xác định thành phần nguyên tố. Nó cũng cung cấp phân bố các nguyên tố trên màng. Phân tích cấu trúc tinh thể bằng nhiễu xạ tia X (XRD) là cần thiết. XRD xác định các pha tinh thể hình thành và định hướng tinh thể. Các thông tin này rất quan trọng để hiểu cơ chế lắng đọng CIGS. Chúng giúp liên hệ quá trình chế tạo với đặc tính màng CIGS. Từ đó, hỗ trợ việc tối ưu hóa lớp CIGS. Các kỹ thuật này đóng góp vào việc nâng cao công nghệ CIGS.

IV.Tối ưu hóa lớp CIGS Thành phần và cấu trúc tinh thể

Việc tối ưu hóa lớp CIGS là mục tiêu cốt lõi của nghiên cứu. Điều này bao gồm việc kiểm soát thành phần hóa học và cấu trúc tinh thể. Cả hai yếu tố này đều ảnh hưởng trực tiếp đến đặc tính quang điện của vật liệu. Nghiên cứu đã chỉ ra vai trò quan trọng của các tham số điện hóa. Chúng ảnh hưởng đến động học lắng đọng CIGS và sự hình thành các pha. Quá trình xử lý nhiệt (ủ) sau lắng đọng cũng rất quan trọng. Nó giúp cải thiện chất lượng tinh thể và giảm khuyết tật. Thành phần nguyên tố chính xác của Cu, In, Ga và Se là cần thiết. Nó quyết định độ rộng vùng cấm và hiệu suất hấp thụ ánh sáng. Hiểu rõ mối quan hệ giữa quá trình chế tạo và cấu trúc màng là chìa khóa. Điều này giúp tạo ra vật liệu quang điện CIGS hiệu suất cao. Tối ưu hóa lớp CIGS đóng góp trực tiếp vào hiệu suất pin CIGS.

4.1. Vai trò tham số điện hóa Kiểm soát thành phần màng CIGS

Các tham số điện hóa có ảnh hưởng lớn đến thành phần của màng CIGS. Thế lắng đọng là một yếu tố quan trọng nhất. Nó quyết định nguyên tố nào sẽ bị khử và lắng đọng. Mật độ dòng điện cũng ảnh hưởng đến tốc độ lắng đọng. Nồng độ ion trong dung dịch điện phân cũng cần được kiểm soát chặt chẽ. Sự thay đổi nhỏ trong các tham số này có thể làm thay đổi tỷ lệ Cu:In:Ga:Se. Điều này ảnh hưởng trực tiếp đến đặc tính màng CIGS. Việc kiểm soát chính xác các tham số giúp tối ưu hóa lớp CIGS. Nó đảm bảo vật liệu quang điện CIGS có thành phần mong muốn. Các nghiên cứu về động học lắng đọng CIGS tập trung vào việc tìm ra các điều kiện tối ưu này.

4.2. Xử lý nhiệt ủ Cải thiện cấu trúc tinh thể lớp hấp thụ CIGS

Sau quá trình lắng đọng điện hóa, xử lý nhiệt là bước không thể thiếu. Nó được gọi là quá trình ủ. Xử lý nhiệt giúp cải thiện đáng kể cấu trúc tinh thể của lớp hấp thụ CIGS. Quá trình này thúc đẩy sự hình thành các hạt tinh thể lớn hơn. Nó cũng giảm thiểu các khuyết tật mạng tinh thể. Điều này dẫn đến sự cải thiện trong chất lượng vật liệu quang điện CIGS. Nhiệt độ và thời gian ủ cần được tối ưu hóa cẩn thận. Chúng ảnh hưởng đến sự khuếch tán nguyên tử và tái kết tinh. Đặc tính màng CIGS sau ủ sẽ có khả năng hấp thụ ánh sáng tốt hơn. Nó cũng có tính chất điện tử vượt trội. Từ đó, hiệu suất pin CIGS được nâng cao. Quá trình này là một phần quan trọng trong phương pháp chế tạo CIGS tổng thể.

4.3. Thành phần nguyên tố Ảnh hưởng trực tiếp hiệu suất pin CIGS

Thành phần nguyên tố của lớp CIGS có ảnh hưởng trực tiếp đến hiệu suất pin CIGS. Tỷ lệ Cu/(In+Ga) lý tưởng thường gần 0.8 đến 0.9. Điều này tạo ra một cấu trúc tinh thể chalcopyrite phù hợp. Tỷ lệ Ga/(In+Ga) cũng rất quan trọng. Nó điều chỉnh độ rộng vùng cấm của vật liệu quang điện CIGS. Độ rộng vùng cấm tối ưu cho pin mặt trời là khoảng 1.15-1.2 eV. Kiểm soát thành phần Se cũng cần thiết. Nó giúp đảm bảo sự hình thành pha tinh thể mong muốn. Các sai lệch nhỏ trong thành phần có thể dẫn đến sự hình thành các pha phụ. Điều này làm giảm đặc tính màng CIGS và hiệu suất tổng thể. Do đó, kiểm soát động học lắng đọng CIGS để đạt được thành phần chính xác là tối quan trọng cho việc tối ưu hóa lớp CIGS.

V.Hiệu suất pin CIGS Hướng phát triển công nghệ CIGS

Nghiên cứu cuối cùng hướng tới đánh giá hiệu suất pin CIGS. Các đặc trưng I-V (dòng-thế) là thước đo chính. Chúng phản ánh khả năng chuyển đổi năng lượng mặt trời thành điện năng. Việc cải thiện hiệu suất pin CIGS là động lực chính của nghiên cứu này. Từ việc hiểu rõ động học lắng đọng CIGS đến tối ưu hóa lớp CIGS. Mục tiêu là phát triển vật liệu quang điện CIGS vượt trội. Công nghệ CIGS vẫn đang tiếp tục phát triển nhanh chóng. Các kết quả nghiên cứu đóng góp vào việc nâng cao hiểu biết. Điều này giúp đẩy mạnh ứng dụng thực tiễn của pin mặt trời màng mỏng CIGS. Hướng phát triển trong tương lai tập trung vào sản xuất quy mô lớn. Nó cũng hướng tới giảm chi phí và tăng cường độ bền. Nghiên cứu này đặt nền móng cho những đổi mới tiếp theo trong công nghệ CIGS.

5.1. Đặc trưng I V Đánh giá hiệu suất quang điện CIGS

Đặc trưng I-V là công cụ chính để đánh giá hiệu suất quang điện CIGS. Nó bao gồm việc đo dòng điện (I) tại các điện áp (V) khác nhau dưới chiếu sáng. Từ đường cong I-V, các thông số quan trọng được trích xuất. Chúng bao gồm dòng điện ngắn mạch (Jsc), điện áp hở mạch (Voc) và hệ số điền đầy (FF). Jsc phản ánh khả năng thu thập photon của vật liệu quang điện CIGS. Voc liên quan đến thế năng tại tiếp giáp p-n. FF mô tả chất lượng của tiếp giáp và điện trở nội. Hiệu suất chuyển đổi của pin được tính từ các thông số này. Các đặc tính màng CIGS tối ưu sẽ dẫn đến các thông số I-V tốt hơn. Điều này chỉ ra một hiệu suất pin CIGS cao. Việc phân tích I-V giúp xác định các lĩnh vực cần tối ưu hóa lớp CIGS.

5.2. Cải thiện hiệu suất Kết nối nghiên cứu và ứng dụng

Cải thiện hiệu suất pin CIGS là mục tiêu cuối cùng. Điều này đòi hỏi sự kết hợp chặt chẽ giữa nghiên cứu cơ bản và ứng dụng thực tiễn. Nghiên cứu động học lắng đọng CIGS cung cấp kiến thức nền tảng. Nó giúp hiểu rõ cách các quá trình chế tạo ảnh hưởng đến vật liệu. Từ đó, các phương pháp chế tạo CIGS được cải tiến. Việc tối ưu hóa lớp CIGS ở cấp độ vật liệu là cần thiết. Điều này bao gồm kiểm soát thành phần, cấu trúc và đặc tính bề mặt. Các phát hiện trong nghiên cứu này có thể được chuyển giao. Chúng có thể được áp dụng vào quy trình sản xuất công nghiệp. Điều này nhằm nâng cao hiệu suất pin CIGS trên quy mô lớn. Việc kết nối nghiên cứu và ứng dụng là chìa khóa. Nó giúp đẩy nhanh sự phát triển của công nghệ CIGS.

5.3. Công nghệ CIGS tương lai Triển vọng và thách thức

Công nghệ CIGS đang đứng trước nhiều triển vọng lớn. Chúng bao gồm tiềm năng đạt hiệu suất cao hơn và chi phí sản xuất thấp hơn. Pin mặt trời màng mỏng CIGS có khả năng linh hoạt và nhẹ. Điều này mở rộng các lĩnh vực ứng dụng mới. Tuy nhiên, vẫn còn nhiều thách thức cần vượt qua. Chúng bao gồm việc đảm bảo tính đồng nhất trên diện tích lớn. Chi phí vật liệu In cũng là một yếu tố cần cân nhắc. Việc phát triển các phương pháp chế tạo CIGS không chứa In hoặc giảm In đang được nghiên cứu. Ngoài ra, cần tiếp tục tối ưu hóa lớp CIGS để tăng cường độ bền. Nghiên cứu sâu hơn về động học lắng đọng CIGS sẽ giúp giải quyết các thách thức này. Nó sẽ thúc đẩy công nghệ CIGS tiến xa hơn.

Xem trước tài liệu
Tải đầy đủ để xem toàn bộ nội dung
Luận án tiến sĩ nghiên cứu động học quá trình lắng đọng lớp hấp thụ của pin mặt trời màng cigs trong phương pháp điện hóa luận án ts vật lý nhiệt đào tạo thí điểm

Tải xuống file đầy đủ để xem toàn bộ nội dung

Tải đầy đủ (126 trang)

Trích đoạn nội dung luận án

Tải xuống để đọc toàn bộ

ĐẠI HỌC QUỐC GIA HÀ NỘI TRƯỜNG ĐẠI HỌC KHOA HỌC TỰ NHIÊN _______________________ Đặng Thị Bích Hợp NGHIÊN CỨU ĐỘNG HỌC QUÁ TRÌNH LẮNG ĐỌNG LỚP HẤP THỤ CỦA PIN MẶT TRỜI MÀNG CIGS TRONG PHƯƠNG PHÁP ĐIỆN HÓA LUẬN ÁN TIẾN SĨ VẬT LÝ Hà Nội - 2015 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail.com ĐẠI HỌC QUỐC GIA HÀ NỘI TRƯỜNG ĐẠI HỌC KHOA HỌC TỰ NHIÊN _______________________ Đặng Thị Bích Hợp NGHIÊN CỨU ĐỘNG HỌC QUÁ TRÌNH LẮNG ĐỌNG LỚP HẤP THỤ CỦA PIN MẶT TRỜI MÀNG CIGS TRONG PHƯƠNG PHÁP ĐIỆN HÓA Chuyên ngành: Vật lý Nhiệt Mã số: (Đào tạo thí điểm) LUẬN ÁN TIẾN SĨ VẬT LÝ NGƯỜI HƯỚNG DẪN KHOA HỌC: 1. Phạm Hồng Quang 2. Đỗ Thị Kim Anh Hà Nội – 2015 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail.com LỜI CAM ĐOAN Tôi cam đoan đây là công trình nghiên cứu của riêng tôi. Các số liệu, kết quả nêu trong luận án là trung thực và chưa từng được ai công bố trong bất kỳ công trình nào khác Tác giả TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail.com LỜI CẢM ƠN Lời đầu tiên, tôi xin kính gửi tới PGS.

Phạm Hồng Quang và PGS. Đỗ Thị Kim Anh những lời cảm ơn sâu sắc nhất. Các Thầy là người đã trực tiếp hướng dẫn, giúp đỡ và tạo mọi điều kiện thuận lợi nhất cho tôi hoàn thành luận án này. Tôi xin bày tỏ lòng biết ơn của mình tới các thầy cô trong Bộ môn Vật lý Nhiệt độ thấp, Khoa Vật lý, Trường Đại học Khoa học tự nhiên, ĐHQG Hà Nội đã tạo những điều kiện thuận lợi nhất giúp tôi trong quá trình thực hiện luận án.

Tôi xin chân thành cảm ơn TS. Đỗ Phúc Quân và NCS. Lưu Mạnh Quỳnh, những người đã rất nhiệt tình cùng tôi thực hiện các phép đo đạc và vận hành các thiết bị thí nghiệm. Tôi cũng xin gửi tới TS.

Ngô Đình Sáng, TS. Trần Hải Đức, ThS. Đỗ Quang Ngọc lời cảm ơn chân thành vì sự quan tâm, động viên cũng như các ý kiến đóng góp, các thảo luận khoa học trong quá trình hoàn thành luận án. Tôi xin chân thành cảm ơn các đồng nghiệp trong Phòng Vật lý Khí quyển cũng như Lãnh đạo Viện Vật lý Địa cầu, Viện Hàn lâm KHCN Việt Nam đã luôn động viên và tạo mọi điều kiện thuận lợi trong suốt thời gian thực hiện luận án.

Tôi xin gửi lời cảm ơn tới đề tài QG 10-15 đã có những hỗ trợ về kinh phí trong quá trình tôi làm thực nghiệm. Cuối cùng, tôi đặc biết bày tỏ lòng biết ơn sâu sắc tới Bố, Mẹ, Anh, Chị, Em và đặc biệt là Chồng tôi, những người đã luôn mong mỏi, động viên, giúp tôi thêm nghị lực để hoàn thành luận án này! Hà Nội, tháng 10 năm 2015 Tác giả TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail.com MỤC LỤC Trang Lời cam đoan Lời cảm ơn Mục lục ………………………………………………………………………….1 Danh mục các ký hiệu và chữ viết tắt…………………………….5 Danh mục các bảng …………………………………………………………….6 Danh mục các hình ảnh, đồ thị …………………………………………….11 CHƯƠNG I: TỔNG QUAN VỀ PIN MẶT TRỜI MÀNG MỎNG CIGS ……18 1. Cấu trúc và nguyên lý hoạt động của PMT dựa trên lớp hấp thụ CIGS. Cấu trúc cơ bản của PMT dựa trên lớp hấp thụ CIGS.

Sơ đồ vùng năng lượng của PMT dựa trên lớp hấp thụ CIGS. Nguyên lý hoạt động của PMT dựa trên lớp hấp thụ CIGS. Đặc trưng dòng-thế (I-V) của PMT. Lớp hấp thụ CIGS.

Tính chất quang điện. Sự hấp thụ ánh sáng. Sự phụ thuộc của độ rộng vùng cấm vào thành phần của CIGS. Cấu trúc tinh thể.

Giản đồ pha và các thông số nhiệt động học. Một số phương pháp lắng đọng chế tạo màng mỏng CIGS. Đồng bốc bay từ các nguồn nguyên tố. Selen hóa của lớp tiền chất kim loại.

Bốc bay từ các nguồn hợp chất. Lắng đọng hơi hóa học. Phương pháp lắng đọng điện hóa một bước chế tạo màng mỏng CIGS. Cơ chế lắng đọng màng CIGS.

Vai trò của các tham số trong lắng đọng điện hóa màng CIGS .36 1 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail. Nhiệt động học quá trình lắng đọng điện hóa màng mỏng. Động học điện cực. Quá trình lắng đọng điện hóa của các hợp chất .39 CHƯƠNG II: PHƯƠNG PHÁP THỰC NGHIỆM.

Phương pháp chế tạo mẫu. Nghiên cứu cơ chế lắng đọng màng CIGS. Kỹ thuật Vol-Ampe Vòng (Cyclic Voltammetry - CV). Kỹ thuật cân vi lượng tinh thể thạch anh trong điện hóa (EQCM).

Nghiên cứu cấu trúc và hình thái bề mặt của màng mỏng. Ảnh hiển vi điện tử quét (SEM) và phổ tán sắc năng lượng (EDS). Phân tích cấu trúc tinh thể bằng phương pháp nhiễu xạ tia X. Đo độ dày màng mỏng bằng phương pháp Stylus Profiler.

Đo đặc trưng quang - điện. Kỹ thuật ủ xử lý nhiệt.58 CHƯƠNG III: KẾT QUẢ VÀ THẢO LUẬN. Nghiên cứu cơ chế tạo pha CuSex trong quá trình điện hóa bằng phương pháp EQCM. Thực nghiệm phép đo EQCM kết hợp CV và lắng đọng màng CuSex.

Vai trò của chất tạo phức axit sulfamic trong sự tạo pha CuSex trong chế độ quét thế. Cơ chế lắng đọng của Cu - Nghiên cứu EQCM kết hợp CV. Cơ chế lắng đọng của hệ Cu –Se. Nghiên cứu EQCM kết hợp CV.

Vai trò của chất axit sulfamic trong sự tạo pha CuSex trong chế độ thế không đổi. Lắng đọng tại thế không đổi. Thành phần của các mẫu lắng đọng ở chế độ thế không đổi. Nghiên cứu lắng đọng Ga (hệ CuGaSe2) trên các đế Mo và ITO.

Thực nghiệm về lắng đọng Ga (hệ CuGaSe2) trên các đế Mo và ITO. Các kết quả CV .79 2 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail. Đặc trưng I-V của các đơn chất Cu, Ga và Se. Đặc trưng I-V của hệ 3 nguyên Cu-Ga-Se.

Kết quả lắng đọng của màng CuGaSe2. Nghiên cứu cơ chế lắng đọng điện hóa màng mỏng CIGS bằng phương pháp Vol-Ampe Vòng (CV). Thực nghiệm về lắng đọng điện hóa màng mỏng CIGS bằng phương pháp Vol-Ampe Vòng (CV). Ảnh hưởng của nồng độ chất tạo phức axit sulfamic lên quá trình lắng đọng điện hóa lớp hấp thụ CIGS - Các kết quả CV.

Đặc trưng I-V của các đơn chất Cu, Ga, In và Se. Đặc trưng I-V của hệ 2 nguyên Cu- Se. Đặc trưng I-V của hệ bốn Cu-In-Ga-Se. Ảnh hưởng của nồng độ chất tạo phức axit sulfamic acid lên thành phần màng CIGS.

Ảnh hưởng của nồng độ axit sulfamic lên thành phần màng mỏng CIGS trước khi xử lý nhiệt. Ảnh hưởng của nồng độ axit sulfamic lên thành phần màng mỏng CIGS sau khi xử lý nhiệt. Ảnh hưởng của nồng độ axit sulfamic lên độ dày, hình thái học và độ kết tinh màng CIGS. Chế tạo màng mỏng CIGS với hợp thức Cu(In0.3)Se2 và khảo sát đặc trưng quang điện.

Thực nghiệm chế tạo màng mỏng CIGS với hợp thức Cu(In0.3)Se2 và khảo sát đặc trưng quang điện. Chế tạo màng mỏng CIGS với hợp thức Cu(In0. Sự phụ thuộc vào điện thế của thành phần màng CIGS. Ảnh hưởng của nồng độ ion Cu2+ lên thành phần màng CIGS.

Chế tạo thử nghiệm tế bào PMT đơn giản dựa trên màng mỏng CIGS với hợp thức Cu(In0.106 3 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail. Cấu tạo của PMT Al/CIGS/ITO/soda-lime glass. Nguyên lý hoạt động của PMT Al/CIGS/ITO/soda-lime glass. Khảo sát đặc trưng quang điện .109 KẾT LUẬN CHƯƠNG III .111 KẾT LUẬN CHUNG .112 DANH MỤC CÁC CÔNG TRÌNH KHOA HỌC CỦA TÁC GIẢ LIÊN QUAN ĐẾN LUẬN ÁN …………………………………………………………….113 TÀI LIỆU THAM KHẢO .114 4 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail.com DANH MỤC CÁC KÝ HIỆU VÀ CHỮ VIẾT TẮT Ký hiệu, Tên tiếng Anh Tên tiếng Việt chữ viết tắt CE Counter Electrode Điện cực đếm CV Cyclic Voltammetry Quét thế vòng CVD Chemical Vapour Deposition Lắng đọng hơi hóa học dc Direct current Dòng điện một chiều ED Electrochemical Deposition Lắng đọng điện hóa EDS Energy Dispersive Spectroscopy Phổ tán sắc năng lượng EMF Electromotive force Lực điện động lực EQCM Electrochemical Quartz Crystal Cân vi lượng tinh thể thạch anh Microbalance trong lắng đọng điện hóa FF Fill factor (%) Hệ số điền đầy J SC Short circuit open density Mật độ dòng đoản mạch (mA/cm2) MBE Molecular Beam Epitaxy Epitaxi chùm phân tử PMT Solar cell Pin mặt trời PV Photovoltaic Quang điện RE Reference Electrode Điện cực so sánh SCE Satured Calomel Electrode Điện cực calomel bão hòa SEM Scanning Electron Microscopy Hiển vi điện tử quét SHE Standard Hydrogen Electrode Điện cực chuẩn hydro TCO Transparent Conducting oxide Oxit dẫn điện trong suốt VOC Open circuit voltage (V) Thế hở mạch WE Working Electrode Điện cực làm việc CIGS Copper indium gallium (di)selenide Vật liệu bán dẫn gồm đồng, indi, (CuInxGa(1-x)Se2 ) gali, và selen ITO Tin oxide doped Indium Oxit thiếc pha tạp Indi 5 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail.com DANH MỤC CÁC BẢNG Bảng 1: Một số kết quả sử dụng làm nguồn Se trong phương pháp Selen hóa .1: Giá trị x mô tả thành phần của màng phát triển trong quá trình lắng đọng với chế độ thế không đổi được đo bằng EDS.2: Thành phần mẫu CuGaSe2 lắng đọng trên hai đế ITO và Mo tại các điện thế khác nhau.3: Thành phần của màng mỏng CIGS chưa ủ được chế tạo ở -0,9 V trong dung dich chứa axit sulfamic với nồng độ khác nhau được đo bằng EDS.4: Thành phần của màng mỏng CIGS sau ủ được chế tạo ở -0,9 V trong dung dich chứa axit sulfamic với nồng độ khác nhau được đo bằng EDS.5: Thành phần của màng CIGS lắng đọng ở các điện thế khác nhau được đo bằng EDS.6: Thành phần trước khi ủ của các mẫu CIGS được lắng đọng ở -0.9 V từ dung dịch có nồng độ ion Cu2+ khác nhau được đo bằng EDS .7: Thành phần sau khi ủ của các mẫu CIGS được lắng đọng ở -0.9 V từ dung dịch có nồng độ ion Cu2+ khác nhau được đo bằng EDS .105 6 TIEU LUAN MOI download : skknchat@gmail.com DANH MỤC CÁC HÌNH ẢNH, ĐỒ THỊ Hình 1.1: Độ rộng vùng cấm thay đổi theo hằng số mạng của một số chất bán dẫn .2: Sự phụ thuộc của hệ số hấp thụ α vào năng lượng photon của một số chất bán dẫn .3: Cấu trúc một PMT màng mỏng CIGS .4: Sơ đồ vùng năng lượng của PMT dạng ZnO/CdS/CIGS .5: Sự tạo thành dòng điện của các điện tử-lỗ trống .6: Sơ đồ minh họa đặc trưng dòng –thế của PMT trong điều kiện chiếu sáng và không chiếu sáng ……………………………………………………………….7: Mạch điện tương đương của một PMT thực .8: Hiệu suất theo lý thuyết (“Wirkungsgrad”) như một hàm của năng lượng vùng cấm ………………………………………………………………………….9: Cấu trúc tinh thể Cu(In,Ga)Se2 (màu đỏ: Cu, màu vàng: Se, màu xanh: In/Ga) .10: Giản đồ pha của hệ Cu-Se .11: Gian đồ pha của hệ Ga-Se …………………………………………….12: Giản đồ pha của hệ Cu-In-Se ………………………………………….

Nội dung được bảo vệ bản quyền — Tải xuống đầy đủ

Trích dẫn luận án này

Đặng Thị Bích Hợp (2015). Nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin mặt trời màng CIGS [Luận án tiến sĩ, Trường Đại học Khoa học Tự nhiên - Đại học Quốc gia Hà Nội]. LuanAn.net. https://luanan.net/vat-ly/nghien-cuu-dong-hoc-lang-dong-lop-hap-thu-pin-mat-troi-mang-cigs

Câu hỏi thường gặp

Luận án "Nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin mặt trời màng CIGS" nghiên cứu về vấn đề gì?

"Luận án nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ của pin mặt trời màng CIGS trong phương pháp điện hóa. Đề xuất mô hình cải tiến hiệu suất của pin mặt trời."

Luận án "Nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin mặt trời màng CIGS" được bảo vệ tại trường nào?

Luận án này được bảo vệ tại Trường Đại học Khoa học Tự nhiên - Đại học Quốc gia Hà Nội. Năm bảo vệ: 2015.

Luận án "Nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin mặt trời màng CIGS" thuộc chuyên ngành gì?

Luận án "Nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin mặt trời màng CIGS" thuộc chuyên ngành Vật lý Nhiệt. Danh mục: Vật Lý.

Luận án "Nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin mặt trời màng CIGS" có bao nhiêu trang?

Luận án "Nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin mặt trời màng CIGS" có 126 trang. Bạn có thể xem trước một phần tài liệu ngay trên trang web trước khi tải về.

Cách tải luận án "Nghiên cứu động học lắng đọng lớp hấp thụ pin mặt trời màng CIGS" về máy như thế nào?

Để tải luận án về máy, bạn nhấn nút "Tải xuống ngay" trên trang này, sau đó hoàn tất thanh toán phí lưu trữ. File sẽ được tải xuống ngay sau khi thanh toán thành công. Hỗ trợ qua Zalo: 0559 297 239.

Luận án liên quan

Chia sẻ tài liệu: Facebook Twitter