Luận án tiến sĩ: Hole Burning phổ bền vững vật liệu thủy tinh Eu - Nguyễn Trọng Thành

Luận án tiến sĩ về hole burning phổ bền vững trong thủy tinh oxit pha tạp Eu. Phân tích cơ chế, tiềm năng ứng dụng vật liệu quang học mới.

Trường ĐH

viện khoa học vật liệu

Chuyên ngành

Vật liệu quang học, quang điện tử và quang tử

Tác giả

Luan An

Thể loại

Luận án tiến sĩ

Năm xuất bản

Số trang

161

Thời gian đọc

25 phút

Lượt xem

0

Lượt tải

0

Phí lưu trữ

50 Point

Tóm tắt nội dung

I.Giới thiệu Hole Burning phổ bền vững PSHB trong thủy tinh

Nghiên cứu Hole Burning phổ bền vững (Persistent Spectral Hole Burning - PSHB) trong thủy tinh oxit Europium là một lĩnh vực quan trọng. Hiện tượng này tạo ra các lỗ hổng hẹp, bền vững trong băng hấp thụ quang học không đồng nhất của vật liệu. Quá trình này bắt đầu bằng việc chiếu xạ laser tần số hẹp vào mẫu. Các ion hoạt động, đặc biệt là ion Europium (Eu3+), được kích thích chọn lọc. Chúng trải qua biến đổi vật lý hoặc hóa học, chuyển sang trạng thái năng lượng khác. Trạng thái mới này không còn hấp thụ ánh sáng ở cùng tần số laser ban đầu. Kết quả là, một "lỗ" đặc trưng xuất hiện trong phổ hấp thụ quang học. Lỗ phổ này duy trì bền vững trong thời gian dài. Tính bền vững của lỗ phổ mở ra tiềm năng ứng dụng cách mạng. Nó có thể được sử dụng trong lưu trữ dữ liệu quang học mật độ cao, bộ lọc phổ quang học tiên tiến và xử lý tín hiệu quang học tốc độ cao. Vật liệu thủy tinh pha tạp Eu3+ thường được nghiên cứu. Ion Eu3+ có tính chất quang học đặc biệt, cho phép quan sát rõ ràng hiện tượng PSHB.

1.1. Khái niệm Hole Burning phổ bền vững

Hole Burning phổ bền vững (PSHB), hay còn gọi là ghi phổ lỗ bền vững, mô tả quá trình tạo ra một sự suy giảm cục bộ, sắc nét trong phổ hấp thụ quang học của một vật liệu. Điều này xảy ra khi vật liệu được chiếu xạ bằng một chùm tia laser tần số cực hẹp tại một bước sóng cụ thể. Ánh sáng laser này chỉ kích thích một tập hợp con các tâm hấp thụ (ví dụ, ion Europium) có tần số cộng hưởng chính xác khớp với tần số laser. Các tâm bị kích thích này sau đó trải qua một quá trình chuyển đổi năng lượng hoặc cấu hình. Quá trình này khiến chúng không còn hấp thụ tại tần số ban đầu. Do đó, một "lỗ" được hình thành trong phổ hấp thụ băng rộng không đồng nhất của vật liệu tại vị trí tần số laser. Tính chất bền vững của lỗ phổ là yếu tố then chốt, nghĩa là lỗ tồn tại trong thời gian dài sau khi tắt laser. Hiện tượng này là nền tảng cho việc nghiên cứu các cơ chế tương tác ánh sáng-vật chất ở cấp độ nguyên tử và phân tử. Nó cũng có ý nghĩa lớn đối với công nghệ quang tử hiện đại. Khả năng tạo và duy trì các lỗ phổ mở ra cánh cửa cho các ứng dụng tiên tiến. Nó đặc biệt quan trọng trong lĩnh vực lưu trữ thông tin quang học mật độ cao và xử lý tín hiệu.

1.2. Cơ chế hình thành và ý nghĩa khoa học của PSHB

Cơ chế hình thành lỗ phổ bền vững trong thủy tinh oxit Europium chủ yếu liên quan đến các quá trình quang hóa hoặc quang vật lý. Một cơ chế phổ biến là quá trình ion hóa quang học hoặc chuyển điện tích. Khi ion Eu3+ hấp thụ photon laser, nó có thể bị kích thích lên mức năng lượng cao hơn. Từ đó, electron có thể bị chuyển giao cho các bẫy lân cận trong mạng thủy tinh. Quá trình này tạo ra các tâm Eu2+ hoặc các trạng thái khác không hấp thụ ở cùng tần số ban đầu của Eu3+. Sự thay đổi này tạo ra lỗ phổ. Một cơ chế khác có thể là sự sắp xếp lại cục bộ của môi trường xung quanh ion Eu3+, làm thay đổi trường tinh thể và dịch chuyển tần số cộng hưởng của ion. Các cơ chế này đều dẫn đến sự hình thành băng rộng không đồng nhất trong phổ hấp thụ của vật liệu. PSHB cung cấp một công cụ mạnh mẽ để nghiên cứu các tương tác giữa ion đất hiếm và môi trường nền thủy tinh. Nó cho phép phân biệt giữa độ rộng đồng nhất (liên quan đến thời gian sống của trạng thái kích thích) và độ rộng không đồng nhất (liên quan đến sự đa dạng của môi trường cục bộ). Hiểu rõ các cơ chế này là rất quan trọng. Nó giúp tối ưu hóa vật liệu và điều kiện cho các ứng dụng kỹ thuật. Nghiên cứu PSHB cũng đóng góp vào sự hiểu biết về tính chất quang học và động học của các hệ vật liệu thủy tinh pha tạp ion đất hiếm.

II.Thủy tinh oxit Europium Vật liệu nền PSHB lý tưởng

Thủy tinh oxit Europium được coi là vật liệu nền lý tưởng cho nghiên cứu Hole Burning phổ bền vững. Nền thủy tinh oxit cung cấp môi trường vô định hình, dẫn đến sự phân bố rộng của các vị trí ion Eu3+. Điều này tạo ra băng hấp thụ không đồng nhất cần thiết cho PSHB. Ion Europium (Eu3+) có các chuyển dời điện tử 4f-4f đặc trưng. Các chuyển dời này có các vạch phổ phát xạ hẹp và cường độ nhạy cảm với môi trường cục bộ. Đặc tính này làm cho Eu3+ trở thành một probe tuyệt vời. Nó giúp thăm dò cấu trúc vi mô và động học của mạng thủy tinh. Nghiên cứu đã tập trung vào các loại thủy tinh oxit khác nhau, bao gồm thủy tinh fluoroaluminoborate và aluminosilicate. Mỗi loại nền thủy tinh ảnh hưởng đến tính chất quang học và hiệu suất PSHB của ion Eu3+ theo những cách riêng biệt. Việc kiểm soát thành phần hóa học của thủy tinh cho phép điều chỉnh các thông số quan trọng. Chúng bao gồm độ sâu lỗ phổ, độ bền vững và nhiệt độ hoạt động của PSHB. Thủy tinh pha tạp Eu3+ hứa hẹn cho các ứng dụng công nghệ cao nhờ vào khả năng kiểm soát quang học chính xác.

2.1. Cấu trúc và đặc tính của thủy tinh oxit pha tạp Eu3

Thủy tinh oxit pha tạp Eu3+ là một lớp vật liệu quang học quan trọng. Cấu trúc vô định hình của thủy tinh tạo ra một loạt các môi trường cục bộ khác nhau cho ion Europium (Eu3+). Sự đa dạng này dẫn đến hiện tượng băng rộng không đồng nhất trong phổ hấp thụ và phát xạ. Đây là điều kiện tiên quyết cho Hole Burning phổ bền vững. Các loại thủy tinh được nghiên cứu bao gồm borate, aluminosilicate và fluoroaluminoborate. Mỗi thành phần nền thủy tinh ảnh hưởng đến tính chất vật lý và hóa học của vật liệu. Ví dụ, thủy tinh fluoroaluminoborate thường có độ bền nhiệt và quang học cao. Điều này là do sự kết hợp của các oxit và florua. Ion Eu3+ hoạt động như một trung tâm phát quang trong mạng thủy tinh. Vị trí của Eu3+ trong mạng thủy tinh ảnh hưởng trực tiếp đến các thông số quang học. Các thông số này bao gồm cường độ chuyển dời, thời gian sống huỳnh quang và độ nhạy cảm của phổ với trường tinh thể. Việc kiểm soát cấu trúc nền thủy tinh thông qua thành phần hóa học là cần thiết. Nó giúp tối ưu hóa hiệu suất của vật liệu cho các ứng dụng quang tử.

2.2. Tính chất quang học của ion Eu3 trong nền thủy tinh

Ion Europium (Eu3+) sở hữu các tính chất quang học độc đáo. Các tính chất này làm cho nó trở thành một tâm hoạt động hấp dẫn trong thủy tinh oxit. Eu3+ có các chuyển dời điện tử 4f-4f nội tại. Các chuyển dời này được bảo vệ khỏi ảnh hưởng mạnh mẽ của môi trường bên ngoài. Điều này dẫn đến các vạch phổ hấp thụ quang học và quang phổ huỳnh quang tương đối hẹp. Đặc biệt, chuyển dời 5D0 → 7F2 của Eu3+ rất nhạy cảm với đối xứng của môi trường cục bộ. Ngược lại, chuyển dời 5D0 → 7F1 ít bị ảnh hưởng bởi môi trường. Tỷ lệ cường độ của hai chuyển dời này có thể được sử dụng để đánh giá đối xứng của vị trí Eu3+ trong mạng thủy tinh. Sự phân bố môi trường cục bộ đa dạng trong thủy tinh tạo ra băng rộng không đồng nhất. Điều này cho phép thực hiện Hole Burning phổ bền vững. Khi nhiệt độ giảm, băng rộng đồng nhất của các chuyển dời giảm. Điều này giúp các lỗ phổ trở nên sắc nét và sâu hơn. Việc nghiên cứu chi tiết các tính chất quang học của ion Eu3+ trong các nền thủy tinh khác nhau là rất quan trọng. Nó giúp hiểu rõ cơ chế tương tác và tối ưu hóa vật liệu cho các ứng dụng quang tử.

III.Phương pháp nghiên cứu Hole Burning phổ và quang phổ laser

Để nghiên cứu sâu Hole Burning phổ bền vững trong thủy tinh oxit Eu, nhiều phương pháp quang phổ tiên tiến được áp dụng. Các kỹ thuật này cho phép thăm dò cấu trúc điện tử và động học của các ion Europium (Eu3+) ở cấp độ chi tiết. Phương pháp phổ hấp thụ quang học cung cấp thông tin về các chuyển dời điện tử tổng thể. Quang phổ huỳnh quang và phổ kích thích huỳnh quang tiết lộ các đặc điểm phát xạ và hấp thụ của Eu3+. Đặc biệt, các kỹ thuật quang phổ laser phân giải cao như đo phổ Hole Burning (PSHB) và huỳnh quang vạch hẹp (Fluorescence Line Narrowing - FLN) là không thể thiếu. Chúng cho phép phân tích các đóng góp của băng rộng đồng nhất và không đồng nhất vào phổ. Thực nghiệm đo phổ PSHB bao gồm việc 'ghi' lỗ bằng laser đơn tần và sau đó 'đọc' bằng cách quét một laser có công suất thấp hơn. Phổ FLN giúp loại bỏ hiệu ứng băng rộng không đồng nhất. Điều này cung cấp thông tin về băng rộng đồng nhất thực sự của các chuyển dời. Sự kết hợp các phương pháp này mang lại cái nhìn toàn diện về quá trình Hole Burning và các đặc tính quang học của vật liệu thủy tinh pha tạp Eu.

3.1. Kỹ thuật phổ hấp thụ quang học và quang phổ huỳnh quang

Kỹ thuật phổ hấp thụ quang học là một công cụ cơ bản để đặc trưng hóa vật liệu thủy tinh pha tạp Eu3+. Nó cung cấp thông tin về các chuyển dời điện tử của ion Europium từ trạng thái cơ bản lên các trạng thái kích thích cao hơn. Phổ hấp thụ cho phép xác định vị trí của các đỉnh hấp thụ, cường độ hấp thụ và độ rộng băng. Các thông số này liên quan đến nồng độ ion Eu3+ và tương tác của chúng với môi trường mạng thủy tinh. Bên cạnh đó, quang phổ huỳnh quang là một kỹ thuật bổ trợ quan trọng. Khi ion Eu3+ bị kích thích lên một mức năng lượng cao hơn, nó phát ra ánh sáng huỳnh quang khi trở về trạng thái năng lượng thấp hơn. Quang phổ huỳnh quang cung cấp chi tiết về các chuyển dời phát xạ đặc trưng của Eu3+. Phổ kích thích huỳnh quang cũng được sử dụng để xác định hiệu quả kích thích và các con đường năng lượng. Các phép đo này giúp đánh giá hiệu quả phát quang và hiểu rõ hơn về cơ chế quang vật lý của Eu3+ trong thủy tinh. Thông tin từ phổ hấp thụ và huỳnh quang là nền tảng cho việc áp dụng các mô hình lý thuyết như Judd-Ofelt để phân tích sâu hơn.

3.2. Đo phổ Hole Burning và Huỳnh quang vạch hẹp FLN

Việc đo phổ Hole Burning (PSHB) và Huỳnh quang vạch hẹp (FLN) là trọng tâm của nghiên cứu này. Các kỹ thuật này sử dụng quang phổ laser phân giải cao. Kỹ thuật PSHB bao gồm hai bước chính: ghi lỗ và đọc lỗ. Bước ghi lỗ, hay còn gọi là đốt lỗ, sử dụng một laser có tần số hẹp và công suất cao để chọn lọc kích thích và biến đổi các ion Eu3+. Sau đó, một laser có công suất thấp hơn được quét qua dải tần số để đo phổ hấp thụ hoặc huỳnh quang, từ đó phát hiện ra "lỗ" đã tạo. Điều này cho phép xác định độ sâu, độ rộng và độ bền của lỗ phổ. Kỹ thuật FLN (Fluorescence Line Narrowing) cũng là một phương pháp laser. Nó được dùng để loại bỏ ảnh hưởng của băng rộng không đồng nhất. Bằng cách kích thích chọn lọc một nhóm nhỏ các ion Eu3+ trong băng hấp thụ không đồng nhất bằng laser hẹp, phổ phát xạ thu được sẽ có các vạch hẹp hơn nhiều. Điều này phản ánh băng rộng đồng nhất của các chuyển dời. Kết hợp PSHB và FLN giúp phân tách các đóng góp của băng rộng đồng nhất và không đồng nhất. Điều này cung cấp cái nhìn sâu sắc về các tương tác ion-mạng và động học của quá trình quang học trong thủy tinh oxit Eu.

IV.Phân tích quang học ion Eu3 bằng Lý thuyết Judd Ofelt

Lý thuyết Judd-Ofelt là một công cụ lý thuyết mạnh mẽ. Nó được sử dụng để phân tích các tính chất quang học của ion đất hiếm, bao gồm ion Europium (Eu3+), trong các môi trường khác nhau như thủy tinh. Lý thuyết này cho phép tính toán các thông số cường độ điện lưỡng cực và từ lưỡng cực của các chuyển dời 4f-4f. Các thông số này cung cấp thông tin định lượng về môi trường cục bộ xung quanh ion Eu3+. Cụ thể, nó giúp xác định các thông số cường độ Ωλ (Ω2, Ω4, Ω6) từ phổ hấp thụ quang học thực nghiệm. Các thông số Ωλ này đặc biệt quan trọng. Chúng phản ánh mức độ tương tác giữa các electron 4f của ion đất hiếm và trường ligand của môi trường nền. Thông số Ω2 đặc biệt nhạy cảm với tính đối xứng và cộng hóa trị của môi trường cục bộ. Trong khi đó, Ω4 và Ω6 liên quan đến độ cứng và mật độ của vật liệu. Áp dụng Lý thuyết Judd-Ofelt giúp định lượng sự khác biệt trong môi trường xung quanh Eu3+ giữa các loại thủy tinh khác nhau. Nó cũng hỗ trợ việc dự đoán và giải thích cường độ các chuyển dời phát xạ, thời gian sống bức xạ và hiệu suất lượng tử của ion Eu3+. Việc hiểu rõ các thông số này là cần thiết để thiết kế và tối ưu hóa vật liệu quang tử.

4.1. Tổng quan về Lý thuyết Judd Ofelt

Lý thuyết Judd-Ofelt, được phát triển độc lập bởi Judd và Ofelt vào đầu những năm 1960, là một khuôn khổ bán kinh nghiệm. Nó được sử dụng rộng rãi để mô tả các chuyển dời điện lưỡng cực 4f-4f của các ion đất hiếm trong pha rắn và lỏng. Lý thuyết này dựa trên giả định rằng các chuyển dời 4f-4f được phép về mặt spin nhưng bị cấm về mặt chẵn lẻ. Tuy nhiên, sự pha trộn của cấu hình 4fn và 4fn-15d do trường tinh thể phi đối xứng cho phép các chuyển dời điện lưỡng cực yếu xảy ra. Lý thuyết Judd-Ofelt tính toán cường độ dao động (oscillator strength) của các chuyển dời này dựa trên ba thông số cường độ Ωλ (λ = 2, 4, 6) có tính chất kinh nghiệm. Các thông số này bao gồm các yếu tố liên quan đến đối xứng của trường tinh thể và tính cộng hóa trị của liên kết. Chúng đặc trưng cho tương tác giữa ion đất hiếm và môi trường cục bộ. Lý thuyết Judd-Ofelt đã được chứng minh là một công cụ hiệu quả. Nó giúp phân tích phổ hấp thụ và phát xạ, tính toán xác suất chuyển dời, thời gian sống bức xạ và hiệu suất lượng tử của nhiều vật liệu quang học pha tạp ion đất hiếm, bao gồm thủy tinh oxit Europium.

4.2. Xác định các thông số cường độ Ωλ từ phổ thực nghiệm

Việc xác định các thông số cường độ Ωλ (Omega lambda) là một bước quan trọng trong việc áp dụng Lý thuyết Judd-Ofelt. Quá trình này bắt đầu bằng việc thu thập phổ hấp thụ quang học của thủy tinh pha tạp Eu3+. Từ phổ hấp thụ, các giá trị cường độ dao động thực nghiệm cho từng chuyển dời điện tử 4f-4f của ion Eu3+ được tính toán. Sau đó, một phương pháp bình phương tối thiểu được sử dụng để khớp các giá trị cường độ dao động thực nghiệm với các giá trị lý thuyết được tính toán từ Lý thuyết Judd-Ofelt. Quá trình khớp này cho phép xác định ba thông số cường độ Ω2, Ω4 và Ω6. Mỗi thông số này mang ý nghĩa vật lý riêng. Thông số Ω2 đặc biệt nhạy cảm với đối xứng của môi trường cục bộ xung quanh ion Eu3+ và tính cộng hóa trị của liên kết. Giá trị Ω2 cao thường chỉ ra một môi trường có độ đối xứng thấp hoặc tính cộng hóa trị cao hơn. Các thông số Ω4 và Ω6 ít nhạy cảm hơn với đối xứng. Chúng liên quan đến độ cứng của mạng tinh thể và mật độ của môi trường. Việc tính toán chính xác các thông số này từ phổ hấp thụ giúp đánh giá khách quan sự khác biệt trong môi trường cục bộ của Eu3+ trong các loại thủy tinh oxit khác nhau.

V.Kết quả thực nghiệm và tiềm năng ứng dụng Hole Burning phổ

Nghiên cứu Hole Burning phổ bền vững trong thủy tinh oxit Eu đã mang lại nhiều kết quả thực nghiệm quan trọng. Các thí nghiệm PSHB được thực hiện trên nhiều loại thủy tinh, bao gồm fluoroaluminoborate Na, Ca và aluminosilicate pha tạp ion Eu3+. Kết quả cho thấy sự hình thành lỗ phổ rõ rệt và có độ bền cao. Đặc tính của lỗ phổ, như độ sâu, độ rộng và thời gian sống, phụ thuộc vào thành phần nền thủy tinh, nhiệt độ và công suất laser. Việc áp dụng Lý thuyết Judd-Ofelt cho phép định lượng các thông số cường độ Ωλ. Điều này cung cấp cái nhìn sâu sắc về môi trường cục bộ của Eu3+ trong các vật liệu khác nhau. Các kết quả này không chỉ đóng góp vào sự hiểu biết cơ bản về hiện tượng PSHB mà còn mở ra nhiều tiềm năng ứng dụng. Công nghệ lưu trữ dữ liệu quang học mật độ cao là một ứng dụng nổi bật. PSHB cũng có thể được sử dụng trong các bộ lọc phổ tần số hẹp và các thiết bị xử lý tín hiệu quang học. Nghiên cứu tiếp tục tối ưu hóa vật liệu và điều kiện hoạt động để khai thác tối đa tiềm năng của Hole Burning phổ bền vững trong công nghệ quang tử.

5.1. Nghiên cứu PSHB trong thủy tinh oxit Eu thực nghiệm

Các kết quả thực nghiệm về Hole Burning phổ bền vững trong thủy tinh oxit Europium là trọng tâm của luận án. Nghiên cứu đã tập trung vào việc chế tạo và đặc trưng hóa các mẫu thủy tinh fluoroaluminoborate Na, Ca và aluminosilicate pha tạp ion Eu3+. Các thí nghiệm đo phổ PSHB đã chứng minh sự hình thành thành công các lỗ phổ hẹp và có độ bền cao trong các vật liệu này. Độ sâu và độ rộng của các lỗ phổ được phân tích chi tiết. Chúng cho thấy sự phụ thuộc vào các yếu tố như nhiệt độ hoạt động, công suất và thời gian chiếu laser, cũng như nồng độ Eu3+. Sự khác biệt trong thành phần nền thủy tinh cũng ảnh hưởng đáng kể đến hiệu quả của PSHB. Ví dụ, một số nền thủy tinh có thể tạo ra các lỗ phổ sâu hơn hoặc bền vững hơn do sự khác biệt trong môi trường cục bộ và khả năng bẫy điện tích. Phân tích phổ huỳnh quang vạch hẹp (FLN) cũng được thực hiện. Nó cung cấp thông tin về băng rộng đồng nhất của các chuyển dời, giúp hiểu rõ hơn về động học thư giãn năng lượng của ion Eu3+ trong mạng thủy tinh. Các kết quả này xác nhận tính khả thi của việc sử dụng thủy tinh oxit Eu làm vật liệu cho các ứng dụng dựa trên PSHB.

5.2. Tiềm năng ứng dụng của Hole Burning phổ bền vững

Tiềm năng ứng dụng của Hole Burning phổ bền vững (PSHB) rất rộng lớn, đặc biệt trong lĩnh vực công nghệ quang tử. Một trong những ứng dụng hứa hẹn nhất là lưu trữ dữ liệu quang học mật độ cao. Khả năng ghi nhiều bit thông tin vào một vị trí không gian duy nhất bằng cách sử dụng các tần số laser khác nhau cho phép tăng đáng kể dung lượng lưu trữ. Điều này vượt xa giới hạn của các phương pháp lưu trữ quang học hai chiều hiện tại. Ngoài ra, PSHB còn có tiềm năng trong việc phát triển các bộ lọc phổ tần số hẹp. Các bộ lọc này có thể được điều chỉnh chính xác để loại bỏ hoặc truyền qua các tần số ánh sáng cụ thể. Điều này rất hữu ích trong viễn thông quang học và các hệ thống cảm biến. PSHB cũng có thể được ứng dụng trong xử lý tín hiệu quang học, chẳng hạn như ghi và tái tạo các xung quang học. Nghiên cứu tiếp tục tập trung vào việc cải thiện độ bền của lỗ phổ ở nhiệt độ cao hơn và tăng tốc độ ghi/đọc. Điều này nhằm đưa công nghệ PSHB từ phòng thí nghiệm ra các ứng dụng thương mại. Thủy tinh oxit Europium, với tính chất PSHB vượt trội, là ứng cử viên hàng đầu cho việc hiện thực hóa các công nghệ tiên tiến này.

Xem trước tài liệu
Tải đầy đủ để xem toàn bộ nội dung
Luận án tiến sĩ nghiên cứu quá trình hole burning phổ bền vững trong một số vật liệu thủy tinh oxit pha tạp eu

Tải xuống file đầy đủ để xem toàn bộ nội dung

Tải đầy đủ (161 trang)

Trích đoạn nội dung luận án

Tải xuống để đọc toàn bộ

1 VIỆN HÀN LÂM KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ VIỆT NAM VIỆN KHOA HỌC VẬT LIỆU ----------    ---------- NGUYỄN TRỌNG THÀNH NGHIÊN CỨU QUÁ TRÌNH HOLE-BURNING PHỔ BỀN VỮNG TRONG MỘT SỐ VẬT LIỆU THỦY TINH ÔXIT PHA TẠP Eu Chuyên nghành: Vật liệu quang học, quang điện tử và quang tử Mã số: 62.27 LUẬN ÁN TIẾN SĨ KHOA HỌC VẬT LIỆU NGƯỜI HƯỚNG DẪN KHOA HỌC: 1. NGUYỄN QUANG LIÊM HÀ NỘI - 2015 2 VIỆN HÀN LÂM KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ VIỆT NAM VIỆN KHOA HỌC VẬT LIỆU ----------    ---------- NGUYỄN TRỌNG THÀNH NGHIÊN CỨU QUÁ TRÌNH HOLE-BURNING PHỔ BỀN VỮNG TRONG MỘT SỐ VẬT LIỆU THỦY TINH ÔXIT PHA TẠP Eu LUẬN ÁN TIẾN SĨ KHOA HỌC VẬT LIỆU HÀ NỘI - 2015 3 LỜI CAM ĐOAN Tôi xin cam đoan đây là công trình nghiên cứu của riêng tôi dưới sự hướng dẫn khoa học của GS. Vũ Xuân Quang và GS. Nguyễn Quang Liêm.

Các số liệu và kết quả được trình bày trong luận án cũng như trong các công bố khoa học của tôi cùng các cộng sự là trung thực và chưa từng được ai công bố trong bất kỳ công trình nào khác. Tác giả luận án 4 LỜI CẢM ƠN. Trước hết, tôi xin trân trọng bày tỏ sự kính trọng và biết ơn sâu sắc tới GS. Vũ Xuân Quang và GS.

Nguyễn Quang Liêm về sự tận tâm hướng dẫn tôi thực hiện và hoàn thành nội dung khoa học của luận án. Tôi chân thành cảm ơn Viện Khoa học Vật Liệu, Phòng Sau đại học, Phòng quản lí tổng hợp, PGS. TS Vũ Đình Lãm, Chị Trịnh Xuân Trang đã tạo mọi điều kiện thuận lợi đối với tôi trong suôt quá trình thực hiện luận án. Tôi chân thành cảm ơn ThS.

Nguyễn Ánh Hồng, PGS. Phan Tiến Dũng, TS. Vũ Phi Tuyến, TS Vũ Thị Thái Hà, NCS Phan Văn Độ và các đồng nghiệp Phòng Quang phổ ứng dụng và Ngọc học, Viện Khoa học Vật liệu, về sự động viên, chia sẻ những lúc khó khăn về tinh thần và vật chất. Tôi xin gửi lời cảm ơn chân thành tới: GS.

TS Phạm Văn Hội, GS. TS Đào Trần Cao, PGS. TS Bùi Huy, PGS. TS Nguyễn Xuân Nghĩa (Viện Khoa học Vật liệu) đã giúp tôi nâng cao kiến thức chuyên môn qua các buổi trao đổi học thuật và lớp học chuyên đề do Viện tổ chức.

Xin được gửi lời cảm ơn tới GS. Hayakawa (Viện Công nghệ Nagoya, Japan về sự giúp đỡ trong việc thực hiện các thí nghiệm phổ phân giải cao PSHB, FLN tại PTN, đồng thời cũng đã dành thời gian để thảo luận về phương pháp và kết quả nghiên cứu của luận án. Tác giả 5 MỤC LỤC Trang phụ bìa Lời cam đoan Lời cảm ơn Mục lục Danh mục các ký hiệu và chữ viết tắt Danh mục các hình vẽ trong luận án Danh mục các bảng trong luận án Trang Đề mục Mở đầu…………………………………………………………………. 1 Chƣơng 1: Tổng quan lý thuyết ……………………….1 Vật liệu thủy tinh pha tạp đất hiếm…………………….1 Cấu trúc chung của thủy tinh .2 Mô hình mạng ngẫu nhiên ……….3 Cấu trúc thủy tinh borate.4 Cấu trúc thủy tinh aluminosilicate .5 Một số tâm điện tử và tâm lỗ trống……….2 Tính chất quang của ion Eu trong thủy tinh………….1 Các ion đất hiếm tự do …….2 Các ion đất hiếm trong trường tinh thể ………….3 Phổ quang học của ion Eu trong nền thủy tinh….3 Phương pháp phổ hole-burning…………………….1 Hiện tượng hole burning …………………….2 Một số cơ chế của hiện tượng hole burning ….3 Một số kết quả nghiên cứu về vật liệu hole burning 29 1.4 Huỳnh quang vạch hẹp …………………….4 Lý thuyết Judd-Ofelt và phương pháp xác định thông số cường 33 độ các chuyển dời quang học của ion đất hiếm …….1 Lý thuyết Judd – Ofelt ……………………….2 Tính các thông số cường độ Ωλ từ phổ thực nghiệm 40 6 1.3 Phân tích các đại lượng vật lý …….

42 Kết luận chương 1……………………………….……………………… 46 Chƣơng 2: Các phƣơng pháp nghiên cứu sử dụng trong luận án…….1 Phương pháp chế tạo vật liệu thủy tinh ………….1 Qui trình chế tạo thủy tinh Fluoroaluminoborate Na, Ca pha tạp Eu3+ .2 Các phương pháp nghiên cứu cấu trúc vật liệu……… .1 Phương pháp nhiễu xạ tia X …………….2 Phương pháp phổ hấp thụ hồng ngoại ……….3 Các phương pháp nghiên cứu chất quang của vật liệu .1 Phương pháp phổ hấp thụ quang học……….2 Phương pháp phổ quang huỳnh quang, kích thích huỳnh quang …………….3 Phương pháp nhiệt phát quang…………….4 Phương pháp phổ huỳnh quang vạch hẹp và phổ hole burning 55 2.2 Thực nghiệm đo phổ FLN và PSHB. 56 Kết luận chương 2………………………………. 58 Chƣơng 3: Kết quả chế tạo và nghiên cứu cấu trúc, tính chất quang của vật liệu thủy tinh Fluoroaluminoborate Na, Ca pha tạp ion Eu3+………………………….1 Chế tạo và nghiên cứu cấu trúc vật liệu………….1 Kết quả chế tạo vật liệu………………………………… 60 3.2 Chiết suất của vật liệu.2 Phân tích cấu trúc vật liệu……………………………………….1 Giản đồ nhiễu xạ tia X………………………………….2 Phổ hấp thụ hồng ngoại………………………………… 63 3.3 Phổ quang học của ion Eu3+ trong thủy tinh .1 Phổ hấp thụ quang học.2 Phổ kích thích huỳnh quang và phonon-sideband.3 Phổ quang huỳnh quang………………………………. 74 Kết luận chương 3……………………………….

80 Chƣơng 4: Áp dụng lý thuyết Judd – Ofelt xác định thông số cƣờng độ các chuyển dời quang học của ion Eu3+ trong vật liệu thủy tinh Aluminosilicate và Fluoroaluminoborate Na (Ca) pha tạp ion Eu3+……… 82 3+ 4.1 Các chuyển dời phát xạ đặc trưng của ion Eu trong vật liệu thủy tinh NaF.Al2O3: Eu , CaF2.Al2O3: Eu3+, 3+ Na2O.B2O3: Eu3+ và Al2O3.2 Áp dụng lý thuyết Judd-Ofelt……………….1 Xác định thông số cường độ Ω2, Ω4 và Ω6 …………….2 Vai trò của các ion trong mạng nền đối với cường độ các chuyển dời quang học của ion Eu3+.3 Các đặc trưng quang phổ của ion Eu ……….1 Thời gian sống của mức kích thích D0 …….2 Tỉ số phân nhánh …………………………….3 Tiết diện ngang phát xạ cưỡng bức ……….4 Tỉ số cường độ huỳnh quang …………………. 94 Kết luận chương 4………………………………. 99 Chƣơng 5: Một số kết quả nghiên cứu mới phổ huỳnh quang vạch hẹp, phổ hole burning và quá trình hole burning của vật liệu thủy tinh fluoroaluminoborate Na, Ca và aluminosilicate pha tạp ion Eu3+ 101 5.1 Phổ huỳnh quang vạch hẹp của thủy tinh fluoroaluminoborate 101 3+ Na, Ca và thủy tinh aluminoborate Na pha tạp Eu ….1 Các thành phần Stark của mức 7F1 và 7F2 của ion Eu3+…… 101 5.2 Thông số trường tinh thể B20, B22 và B2.2 Quá trình hole burning của thủy tinh 10Al2O3.90SiO2: Eu ; 16NaF.8Al2O3: Eu3+ và 16CaF2.1 Phổ bền vững hole burning của vật liệu thủy tinh .2 Vai trò của tia X và quá trình hole burning. 117 8 Kết luận chương 5……………………………….

125 Các công trình liên quan đến luận án……………………………………. 127 Tài liệu tham khảo…………………. 129 Phụ lục…………………………………………………………………… 142 9 DANH MỤC CÁC KÍ HIỆU VIẾT TẮT AEC Tâm điện tử kiềm (Alkali electron center) AEEC Tâm điện tử kiềm thổ (Alkaline earth electron center) AlE’ Tâm khuyết tật E’ Al (Aluminum E′-defect center) AlOHC Tâm lỗ trống oxy Al (Aluminum oxygen hole center) BE’ Tâm khuyết tật E’ B (Boron E′-defect center) BOHC Tâm lỗ trống oxy B (Boron oxygen hole center) BO Oxy cầu nối (Bridging oxygen) BEC Tâm điện tử B (Boron electron center) CTS Trạng thái truyền điện tích (Charge transfer state) ED Lưỡng cực điện (Electric dipole) EPR Cộng hưởng thuận từ điện tử (Electron paramagnetic resonance) ESR Cộng hưởng spin điện tử (Electron spin resonance) FLN Huỳnh quang vạch hẹp (Fluorescence line narrowing) HC Tâm lỗ trống (Hole center) HB Hole burning IR Hồng ngoại (Infrared) MD Lưỡng cực từ (Magnetic dipole) NBO Oxy không cầu nối (Non-bridging oxygen) NBOHC Tâm lỗ trống oxy không cầu nối (Non-bridging oxygen hole center) NIR Hồng ngoại gần (Near infrared) NMR Cộng hưởng từ hạt nhân (Nuclear magnetic resonance) NPHB Hole burning không quang hóa (Non-photochemical hole burning) Hấp OA thụ quang học (Optical absorption ) PHB Hole burning quang ion hóa (Photo-ionnization hole burning) PL Quang huỳnh quang (Photoluminescence) PLE Kích thích huỳnh quang (Photoluminescence excitation) 10 PSB Phonon Sideband PEL Vạch điện tử thuần túy (Pure-electron line) PET Chuyển dời điện tử thuần túy (Pure-electron transition) PMT Ống nhân quang-điện (Photomultiplier tube) PSHB Hole burning phổ bền vững (Persistent spectral hole burning) RE3+ Ion đất hiếm hóa trị 3 (Trivalent rare earth ions ) THB Hole burning chuyển tiếp (Transient hole burning) TL Nhiệt phát quang (Thermoluminescence) TLS Hệ hai mức (Two-level system) UV Tử ngoại (Ultraviolet) Vis Khả kiến (Visible) ZPL Vạch zero phonon (Zero-phonon line) 11 DANH MỤC CÁC HÌNH TRONG LUẬN ÁN Hình Chú thích Trang Hình 1.1 Sự sắp xếp các nguyên tử trong mạng ngẫu nhiên liên tục của vật liệu tinh thể thạch anh SiO2, các chấm nhỏ là nguyên tử kim loại, chấm đen to là nguyên tử ôxy. Mạng được biểu diễn theo hai chiều.2 Sự sắp xếp các nguyên tử trong mạng ngẫu nhiên liên tục của vật liệu thủy tinh silica (SiO2), các chấm nhỏ là nguyên tử kim loại, chấm to là nguyên tử ôxy.

Mạng được biểu diễn theo hai chiều.3 Sự sắp xếp các nguyên tử trong mạng thủy tinh gồm hai thành phần: hình thành mạng, biến đổi mạng và các ôxy không cầu nối. Chấm tròn to là nguyên tử kim loại biến đổi mạng. Chấm tròn trung bình là các nguyên tử ôxy, chấm tròn nhỏ là các thành phần hình thành mạng thủy tinh.4 Mô hình minh họa 2 chiều các vòng boroxol B3O6 và các tam giác BO3 trong thủy tinh borate B2O3. Chấm tròn nhỏ là nguyên tử B, chấm đen to là nguyên tử oxy.5 Đơn vị cấu trúc các nhóm điển hình trong mạng thủy tinh borate, (1) vòng boroxol; (2) đơn vị pentaborate; (3) đơn vị triborate; (4) đơn vị diborate; (5) đơn vị metaborate; (6) chuỗi metaborate; (7) BO4 tetrahedron; (8) đơn vị pyroborate; (9) đơn vị orthoborate; (10) boron–oxygen tetrahedron với 2 nguyên tử oxy cầu nối và 2 nguyên tử oxy không cầu nối.6 Giản đồ minh họa tâm khuyết tật trong thủy tinh (a) vacancy oxy; (b) tâm E′; và (c) tâm E″.7 Giản đồ minh họa tâm khuyết tật E’ khác nhau trong thủy tinh silicate (a) tâm E′1; (b) tâm E′2; và (c) tâm E′4.8 Sơ đồ minh họa sự hình thành của tâm điện tử bởi quá trình chiếu xạ (a) tâm điện tử kiềm (AEC), (b) tâm điện tử kiềm thổ (AEEC) và tâm lỗ trống oxy không cầu nối (NBOHC).9 Mô hình minh họa cơ chế hình thành của các tâm lỗ trống điển hình như tâm lỗ trống oxy không cầu nối (NBOHC): (a) tâm lỗ trống oxy (OHC1); (b) tâm lỗ trống oxy (OHC2); (c) tâm lỗ trống oxy Si (SiOHC1); (d) tâm lỗ trống oxy B (BOHC1) và (e) tâm lỗ trống oxy Al (AlOHC).10 Sơ đồ các dịch chuyển phát xạ đặc trưng của ion Eu 19 Hình 1.11 Giản đồ minh họa sự mở rộng vạch đồng nhất và không đồng nhất của các tâm hấp thụ trong vật tinh thẻ hoàn hảo và tinh thể thực.12 Minh họa sự hình thành hole trong phổ hấp thụ: Гih là độ rộng vạch không đồng nhất, Гh là độ rộng vạch đồng nhất.

ωL là tần số ánh sáng la-de. Sau quá trình hole-burning ở tần số ωL, trên phổ hấp thụ xuất hiện hole và dải hấp thụ mới được tạo ra trong vùng tần số khác.

Nội dung được bảo vệ bản quyền — Tải xuống đầy đủ

Câu hỏi thường gặp

Luận án "Nghiên cứu Hole Burning phổ bền vững trong thủy tinh oxit Eu" nghiên cứu về vấn đề gì?

Luận án tiến sĩ về hole burning phổ bền vững trong thủy tinh oxit pha tạp Eu. Phân tích cơ chế, tiềm năng ứng dụng vật liệu quang học mới.

Luận án "Nghiên cứu Hole Burning phổ bền vững trong thủy tinh oxit Eu" được bảo vệ tại trường nào?

Luận án này được bảo vệ tại viện khoa học vật liệu. Năm bảo vệ: 2015.

Luận án "Nghiên cứu Hole Burning phổ bền vững trong thủy tinh oxit Eu" thuộc chuyên ngành gì?

Luận án "Nghiên cứu Hole Burning phổ bền vững trong thủy tinh oxit Eu" thuộc chuyên ngành Vật liệu quang học, quang điện tử và quang tử. Danh mục: Vật Lý Chất Rắn.

Luận án "Nghiên cứu Hole Burning phổ bền vững trong thủy tinh oxit Eu" có bao nhiêu trang?

Luận án "Nghiên cứu Hole Burning phổ bền vững trong thủy tinh oxit Eu" có 161 trang. Bạn có thể xem trước một phần tài liệu ngay trên trang web trước khi tải về.

Cách tải luận án "Nghiên cứu Hole Burning phổ bền vững trong thủy tinh oxit Eu" về máy như thế nào?

Để tải luận án về máy, bạn nhấn nút "Tải xuống ngay" trên trang này, sau đó hoàn tất thanh toán phí lưu trữ. File sẽ được tải xuống ngay sau khi thanh toán thành công. Hỗ trợ qua Zalo: 0559 297 239.

Luận án liên quan

Chia sẻ tài liệu: Facebook Twitter