Nghiên cứu chế tạo vật liệu dẫn điện trong suốt và vật liệu hấp thụ ánh sáng nhằ
Luận án: Nghiên cứu chế tạo vật liệu dẫn điện trong suốt và vật liệu hấp thụ ánh sáng nhằm sử dụng trong pin mặt trời cztse luận án tiến sĩ. Xem tóm tắt và tải
Luan An
Luận án tiến sĩ
Năm xuất bản
Số trang
125
Thời gian đọc
19 phút
Lượt xem
0
Lượt tải
0
Phí lưu trữ
40 Point
Tổng quan nhanh
- Chủ đề:
- Vật liệu dẫn điện trong suốt cho Pin mặt trời CZTSe
- Số trang:
- 125 trang
- Trường:
- Đại học Bách khoa Hà Nội
- Chuyên ngành:
- Khoa học Vật liệu
- Tác giả:
- Nguyễn Thị Thu Hiền
- Năm:
- 2020
Tóm tắt nội dung luận án
I.Vật liệu dẫn điện trong suốt cho Pin mặt trời CZTSe
Vật liệu dẫn điện trong suốt (TCMs) đóng vai trò then chốt trong công nghệ quang điện. Chúng hình thành lớp điện cực trong suốt, cho phép ánh sáng đi qua đồng thời thu thập dòng điện hiệu quả. Trong pin mặt trời CZTSe, TCMs quyết định hiệu suất chuyển đổi năng lượng. Khả năng truyền qua ánh sáng cao là cần thiết. Độ dẫn điện cũng phải đạt yêu cầu. Các yêu cầu này rất quan trọng cho hoạt động của pin mặt trời. TCMs cần thể hiện độ truyền qua quang học cao trong phổ nhìn thấy. Đồng thời, chúng phải có độ dẫn điện tốt. Độ dẫn điện quang học là thước đo chính. Điện trở suất thấp đảm bảo tổn thất năng lượng tối thiểu. Dải năng lượng vùng cấm rộng là một yêu cầu khác. Điều này ngăn chặn sự hấp thụ ánh sáng không mong muốn. Tính ổn định cơ học và hóa học cũng quan trọng. Vật liệu cần duy trì hiệu suất dưới điều kiện vận hành. Việc cân bằng giữa độ trong suốt và độ dẫn điện là thách thức lớn. Nâng cao một tính chất thường làm giảm tính chất kia. Chi phí sản xuất cũng là yếu tố quan trọng. Các vật liệu như Indium tin oxide (ITO) có hiệu suất cao nhưng giá thành đắt. Tìm kiếm vật liệu thay thế rẻ hơn, thân thiện môi trường đang được ưu tiên. Nghiên cứu tập trung vào cải thiện cả hai yếu tố. Mục tiêu là vật liệu có hiệu suất cao và chi phí thấp.
1.1. Vai trò thiết yếu của vật liệu dẫn điện trong suốt
Vật liệu dẫn điện trong suốt (TCMs) đóng vai trò then chốt trong công nghệ quang điện. Chúng hình thành lớp điện cực trong suốt, cho phép ánh sáng đi qua đồng thời thu thập dòng điện hiệu quả. Trong pin mặt trời CZTSe, TCMs quyết định hiệu suất chuyển đổi năng lượng. Khả năng truyền qua ánh sáng cao là cần thiết. Độ dẫn điện cũng phải đạt yêu cầu. Các yêu cầu này rất quan trọng cho hoạt động của pin mặt trời.
1.2. Yêu cầu tính chất quang điện cho TCMs
TCMs cần thể hiện độ truyền qua quang học cao trong phổ nhìn thấy. Đồng thời, chúng phải có độ dẫn điện tốt. Độ dẫn điện quang học là thước đo chính. Điện trở suất thấp đảm bảo tổn thất năng lượng tối thiểu. Dải năng lượng vùng cấm rộng là một yêu cầu khác. Điều này ngăn chặn sự hấp thụ ánh sáng không mong muốn. Tính ổn định cơ học và hóa học cũng quan trọng. Vật liệu cần duy trì hiệu suất dưới điều kiện vận hành.
1.3. Thách thức trong phát triển vật liệu TCMs
Việc cân bằng giữa độ trong suốt và độ dẫn điện là thách thức lớn. Nâng cao một tính chất thường làm giảm tính chất kia. Chi phí sản xuất cũng là yếu tố quan trọng. Các vật liệu như Indium tin oxide (ITO) có hiệu suất cao nhưng giá thành đắt. Tìm kiếm vật liệu thay thế rẻ hơn, thân thiện môi trường đang được ưu tiên. Nghiên cứu tập trung vào cải thiện cả hai yếu tố. Mục tiêu là vật liệu có hiệu suất cao và chi phí thấp.
II.Điện cực trong suốt Indium Tin Oxide ITO và các lựa chọn
Indium tin oxide (ITO) là vật liệu dẫn điện trong suốt được sử dụng rộng rãi. Nó có độ truyền qua cao trong phổ nhìn thấy. Độ dẫn điện của ITO cũng rất tốt. Đây là lựa chọn tiêu chuẩn cho các ứng dụng điện cực trong suốt. Pin mặt trời, màn hình cảm ứng, và thiết bị quang điện đều dùng ITO. Tuy nhiên, giá thành Indium khá cao. Nguồn cung có thể bị hạn chế. Điều này thúc đẩy tìm kiếm các vật liệu thay thế. Fluorine-doped tin oxide (FTO) và Aluminum-doped zinc oxide (AZO) là những lựa chọn thay thế. FTO có độ ổn định hóa học và nhiệt tốt. AZO thân thiện môi trường hơn và rẻ hơn ITO. Hiệu suất của FTO và AZO có thể thấp hơn một chút. Nghiên cứu liên tục cải thiện chúng. Mục tiêu là đạt được tính chất tương đương ITO. Phát triển vật liệu nano cũng hứa hẹn. Vật liệu carbon như Graphene và Carbon nanotubes (CNTs) đang được khám phá. Chúng có độ dẫn điện cao và linh hoạt. Bạc nanowires (AgNWs) cũng là một ứng cử viên tiềm năng. AgNWs thể hiện độ dẫn điện xuất sắc và độ trong suốt tốt. Các vật liệu này có thể thay thế ITO trong tương lai. Chúng mang lại tiềm năng cho các điện cực trong suốt thế hệ mới. Ứng dụng trong pin mặt trời linh hoạt là một ví dụ.
2.1. Ưu điểm của Indium Tin Oxide ITO
Indium tin oxide (ITO) là vật liệu dẫn điện trong suốt được sử dụng rộng rãi. Nó có độ truyền qua cao trong phổ nhìn thấy. Độ dẫn điện của ITO cũng rất tốt. Đây là lựa chọn tiêu chuẩn cho các ứng dụng điện cực trong suốt. Pin mặt trời, màn hình cảm ứng, và thiết bị quang điện đều dùng ITO. Tuy nhiên, giá thành Indium khá cao. Nguồn cung có thể bị hạn chế. Điều này thúc đẩy tìm kiếm các vật liệu thay thế.
2.2. Vật liệu thay thế FTO AZO và vật liệu nano
Fluorine-doped tin oxide (FTO) và Aluminum-doped zinc oxide (AZO) là những lựa chọn thay thế. FTO có độ ổn định hóa học và nhiệt tốt. AZO thân thiện môi trường hơn và rẻ hơn ITO. Hiệu suất của FTO và AZO có thể thấp hơn một chút. Nghiên cứu liên tục cải thiện chúng. Mục tiêu là đạt được tính chất tương đương ITO. Phát triển vật liệu nano cũng hứa hẹn.
2.3. Khám phá Graphene CNTs và AgNWs
Vật liệu carbon như Graphene và Carbon nanotubes (CNTs) đang được khám phá. Chúng có độ dẫn điện cao và linh hoạt. Bạc nanowires (AgNWs) cũng là một ứng cử viên tiềm năng. AgNWs thể hiện độ dẫn điện xuất sắc và độ trong suốt tốt. Các vật liệu này có thể thay thế ITO trong tương lai. Chúng mang lại tiềm năng cho các điện cực trong suốt thế hệ mới. Ứng dụng trong pin mặt trời linh hoạt là một ví dụ.
III.Phương pháp chế tạo màng mỏng dẫn điện trong suốt
Nhiều kỹ thuật chế tạo màng mỏng dẫn điện trong suốt đòi hỏi môi trường chân không. Phương pháp phún xạ (sputtering) là một ví dụ phổ biến. Phún xạ cho phép kiểm soát chính xác độ dày và thành phần màng. Phương pháp bốc bay (evaporation) cũng được sử dụng. Bốc bay nhiệt hoặc bốc bay chùm điện tử đều tạo ra màng mỏng. Lắng đọng xung laser (pulsed laser deposition) là một kỹ thuật khác. Các phương pháp chân không thường tạo ra màng chất lượng cao. Tuy nhiên, chi phí đầu tư thiết bị cao. Các phương pháp chế tạo không chân không ít tốn kém hơn. Chúng cũng dễ thực hiện hơn. Phương pháp phun phủ nhiệt (spray pyrolysis) là một lựa chọn. Lắng đọng điện hóa (electrochemical deposition) cũng được áp dụng. Phương pháp Sol-gel cho phép tạo màng từ dung dịch hóa chất. Sử dụng dung dịch chứa hạt nano cũng là một hướng mới. Các kỹ thuật này thích hợp cho sản xuất quy mô lớn. Chúng giảm đáng kể chi phí sản xuất. Mỗi phương pháp chế tạo có ưu nhược điểm riêng. Kỹ thuật chân không mang lại màng có độ tinh khiết cao. Chúng kiểm soát được các thông số vật lý của màng mỏng dẫn điện trong suốt. Tuy nhiên, chi phí và sự phức tạp là rào cản. Các phương pháp không chân không tiết kiệm chi phí. Chúng cũng linh hoạt trong ứng dụng. Tuy nhiên, việc kiểm soát chất lượng màng có thể khó hơn. Chọn phương pháp phù hợp phụ thuộc vào yêu cầu ứng dụng.
3.1. Phương pháp chế tạo dựa trên chân không
Nhiều kỹ thuật chế tạo màng mỏng dẫn điện trong suốt đòi hỏi môi trường chân không. Phương pháp phún xạ (sputtering) là một ví dụ phổ biến. Phún xạ cho phép kiểm soát chính xác độ dày và thành phần màng. Phương pháp bốc bay (evaporation) cũng được sử dụng. Bốc bay nhiệt hoặc bốc bay chùm điện tử đều tạo ra màng mỏng. Lắng đọng xung laser (pulsed laser deposition) là một kỹ thuật khác. Các phương pháp chân không thường tạo ra màng chất lượng cao. Tuy nhiên, chi phí đầu tư thiết bị cao.
3.2. Kỹ thuật lắng đọng từ dung dịch và không chân không
Các phương pháp chế tạo không chân không ít tốn kém hơn. Chúng cũng dễ thực hiện hơn. Phương pháp phun phủ nhiệt (spray pyrolysis) là một lựa chọn. Lắng đọng điện hóa (electrochemical deposition) cũng được áp dụng. Phương pháp Sol-gel cho phép tạo màng từ dung dịch hóa chất. Sử dụng dung dịch chứa hạt nano cũng là một hướng mới. Các kỹ thuật này thích hợp cho sản xuất quy mô lớn. Chúng giảm đáng kể chi phí sản xuất.
3.3. Lợi ích và hạn chế của các phương pháp
Mỗi phương pháp chế tạo có ưu nhược điểm riêng. Kỹ thuật chân không mang lại màng có độ tinh khiết cao. Chúng kiểm soát được các thông số vật lý của màng mỏng dẫn điện trong suốt. Tuy nhiên, chi phí và sự phức tạp là rào cản. Các phương pháp không chân không tiết kiệm chi phí. Chúng cũng linh hoạt trong ứng dụng. Tuy nhiên, việc kiểm soát chất lượng màng có thể khó hơn. Chọn phương pháp phù hợp phụ thuộc vào yêu cầu ứng dụng.
IV.Tối ưu hóa vật liệu dẫn điện trong suốt bằng phún xạ
Nghiên cứu tập trung vào chế tạo lớp điện cực cửa sổ Indium tin oxide (ITO). Phương pháp phún xạ được áp dụng. Hệ phún xạ magnetron DC là công cụ chính. Các thông số quá trình phún xạ ảnh hưởng trực tiếp đến tính chất màng. Chúng bao gồm áp suất khí, công suất phún xạ, và nhiệt độ đế. Kiểm soát chặt chẽ các thông số này là cần thiết. Mục tiêu là đạt được màng ITO có hiệu suất cao nhất. Nồng độ khí Oxy trong quá trình phún xạ có vai trò quan trọng. Oxy ảnh hưởng đến độ dẫn điện và độ truyền qua quang học của màng ITO. Nồng độ Oxy tối ưu hóa tạo ra màng có độ trong suốt cao. Đồng thời, độ dẫn điện vẫn được duy trì tốt. Quá ít Oxy có thể dẫn đến màng thiếu stoichiometry. Quá nhiều Oxy có thể giảm độ dẫn điện. Việc điều chỉnh nồng độ Oxy là bước then chốt. Nhiệt độ đế là một yếu tố khác cần được tối ưu hóa. Nhiệt độ đế ảnh hưởng đến sự hình thành tinh thể của màng ITO. Nó cũng tác động đến cấu trúc hạt và mật độ khuyết tật. Nhiệt độ thích hợp giúp cải thiện tính chất điện và quang. Nhiệt độ quá thấp có thể tạo ra màng vô định hình. Nhiệt độ quá cao có thể gây ra các vấn đề khác. Nghiên cứu tìm ra khoảng nhiệt độ tối ưu. Điều này nhằm đạt được hiệu suất cao nhất cho điện cực trong suốt.
4.1. Quy trình chế tạo màng ITO bằng phún xạ
Nghiên cứu tập trung vào chế tạo lớp điện cực cửa sổ Indium tin oxide (ITO). Phương pháp phún xạ được áp dụng. Hệ phún xạ magnetron DC là công cụ chính. Các thông số quá trình phún xạ ảnh hưởng trực tiếp đến tính chất màng. Chúng bao gồm áp suất khí, công suất phún xạ, và nhiệt độ đế. Kiểm soát chặt chẽ các thông số này là cần thiết. Mục tiêu là đạt được màng ITO có hiệu suất cao nhất.
4.2. Ảnh hưởng của nồng độ Oxy đến tính chất vật liệu
Nồng độ khí Oxy trong quá trình phún xạ có vai trò quan trọng. Oxy ảnh hưởng đến độ dẫn điện và độ truyền qua quang học của màng ITO. Nồng độ Oxy tối ưu hóa tạo ra màng có độ trong suốt cao. Đồng thời, độ dẫn điện vẫn được duy trì tốt. Quá ít Oxy có thể dẫn đến màng thiếu stoichiometry. Quá nhiều Oxy có thể giảm độ dẫn điện. Việc điều chỉnh nồng độ Oxy là bước then chốt.
4.3. Tối ưu hóa nhiệt độ đế cho điện cực trong suốt
Nhiệt độ đế là một yếu tố khác cần được tối ưu hóa. Nhiệt độ đế ảnh hưởng đến sự hình thành tinh thể của màng ITO. Nó cũng tác động đến cấu trúc hạt và mật độ khuyết tật. Nhiệt độ thích hợp giúp cải thiện tính chất điện và quang. Nhiệt độ quá thấp có thể tạo ra màng vô định hình. Nhiệt độ quá cao có thể gây ra các vấn đề khác. Nghiên cứu tìm ra khoảng nhiệt độ tối ưu. Điều này nhằm đạt được hiệu suất cao nhất cho điện cực trong suốt.
V.Vật liệu hấp thụ ánh sáng CZTSe trong ứng dụng quang điện
Vật liệu hấp thụ ánh sáng CZTSe (Cu2ZnSnSe4) là thành phần cốt lõi của pin mặt trời thế hệ mới. Nó có cấu trúc tinh thể Kesterite. CZTSe là một vật liệu bán dẫn loại p. Nó thể hiện tính chất quang điện hứa hẹn. Các đặc tính này bao gồm hệ số hấp thụ ánh sáng cao. CZTSe cũng có độ rộng vùng cấm phù hợp. Đây là yếu tố quan trọng cho hiệu suất hấp thụ năng lượng mặt trời. Độ rộng vùng cấm của vật liệu CZTSe ảnh hưởng trực tiếp đến hiệu suất pin. Một vùng cấm tối ưu cho phép hấp thụ hiệu quả phổ ánh sáng mặt trời. Hệ số hấp thụ ánh sáng cao giúp thu giữ nhiều photon hơn. Điều này dẫn đến dòng điện lớn hơn. Cải thiện các tính chất này nâng cao hiệu quả chuyển đổi quang điện. Nghiên cứu tập trung vào việc điều chỉnh các thông số vật liệu. Mục tiêu là tối đa hóa sự hấp thụ năng lượng. Thành phần hóa học của CZTSe có thể được điều chỉnh. Vật liệu CZTSe nghèo Đồng là một hướng nghiên cứu quan trọng. Việc giảm nồng độ Đồng có thể cải thiện chất lượng tinh thể. Nó cũng có thể giảm thiểu khuyết tật. Điều này dẫn đến tăng cường hiệu suất quang điện. Tính chất vật liệu phụ thuộc vào thành phần. Tối ưu hóa thành phần giúp đạt được hiệu suất cao hơn. CZTSe nghèo Đồng có tiềm năng lớn cho pin mặt trời hiệu suất cao.
5.1. Cấu trúc và tính chất quang điện của CZTSe
Vật liệu hấp thụ ánh sáng CZTSe (Cu2ZnSnSe4) là thành phần cốt lõi của pin mặt trời thế hệ mới. Nó có cấu trúc tinh thể Kesterite. CZTSe là một vật liệu bán dẫn loại p. Nó thể hiện tính chất quang điện hứa hẹn. Các đặc tính này bao gồm hệ số hấp thụ ánh sáng cao. CZTSe cũng có độ rộng vùng cấm phù hợp. Đây là yếu tố quan trọng cho hiệu suất hấp thụ năng lượng mặt trời.
5.2. Tầm quan trọng của độ rộng vùng cấm và hấp thụ ánh sáng
Độ rộng vùng cấm của vật liệu CZTSe ảnh hưởng trực tiếp đến hiệu suất pin. Một vùng cấm tối ưu cho phép hấp thụ hiệu quả phổ ánh sáng mặt trời. Hệ số hấp thụ ánh sáng cao giúp thu giữ nhiều photon hơn. Điều này dẫn đến dòng điện lớn hơn. Cải thiện các tính chất này nâng cao hiệu quả chuyển đổi quang điện. Nghiên cứu tập trung vào việc điều chỉnh các thông số vật liệu. Mục tiêu là tối đa hóa sự hấp thụ năng lượng.
5.3. Vật liệu CZTSe nghèo Đồng và tiềm năng cải tiến
Thành phần hóa học của CZTSe có thể được điều chỉnh. Vật liệu CZTSe nghèo Đồng là một hướng nghiên cứu quan trọng. Việc giảm nồng độ Đồng có thể cải thiện chất lượng tinh thể. Nó cũng có thể giảm thiểu khuyết tật. Điều này dẫn đến tăng cường hiệu suất quang điện. Tính chất vật liệu phụ thuộc vào thành phần. Tối ưu hóa thành phần giúp đạt được hiệu suất cao hơn. CZTSe nghèo Đồng có tiềm năng lớn cho pin mặt trời hiệu suất cao.
Mục lục chi tiết luận án
Tải xuống file đầy đủ để xem toàn bộ nội dung
Tải đầy đủ (125 trang)Trích đoạn nội dung luận án
Tải xuống để đọc toàn bộBỘ GIÁO DỤC VÀ ĐÀO TẠO TRƯỜNG ĐẠI HỌC BÁCH KHOA HÀ NỘI NGUYỄN THỊ THU HIỀN NGHIÊN CỨU CHẾ TẠO VẬT LIỆU DẪN ĐIỆN TRONG SUỐT VÀ VẬT LIỆU HẤP THỤ ÁNH SÁNG NHẰM SỬ DỤNG TRONG PIN MẶT TRỜI CZTSe LUẬN ÁN TIẾN SĨ KHOA HỌC VẬT LIỆU Hà Nội – 2020 BỘ GIÁO DỤC VÀ ĐÀO TẠO TRƯỜNG ĐẠI HỌC BÁCH KHOA HÀ NỘI NGUYỄN THỊ THU HIỀN NGHIÊN CỨU CHẾ TẠO VẬT LIỆU DẪN ĐIỆN TRONG SUỐT VÀ VẬT LIỆU HẤP THỤ ÁNH SÁNG NHẰM SỬ DỤNG TRONG PIN MẶT TRỜI CZTSe Ngành: Khoa học vật liệu Mã số: 9440122 LUẬN ÁN TIẾN SĨ KHOA HỌC VẬT LIỆU NGƯỜI HƯỚNG DẪN KHOA HỌC: 1. NGUYỄN DUY CƯỜNG 2. NGUYỄN HỮU DŨNG Hà Nội – 2020 i LỜI CAM ĐOAN Tôi, NCS. Nguyễn Thị Thu Hiền, xin cam đoan đây là công trình nghiên cứu của tôi dưới sự hướng dẫn của: PGS.
Nguyễn Duy Cường và TS. Nguyễn Hữu Dũng. Kết quả nghiên cứu trình bày trong luận án là khách quan, trung thực và chưa từng được tác giả khác công bố. Hà nội, ngày 31 tháng 01 năm 2020 Thay mặt tập thể giáo viên hướng dẫn Tác giả PGS.
Nguyễn Duy Cường NCS. Nguyễn Thị Thu Hiền ii LỜI CẢM ƠN Sau 3 năm nghiên cứu chính thức dưới sự hướng dẫn nhiệt tình của PGS. Nguyễn Duy Cường và TS. Nguyễn Hữu Dũng, tôi đã hoàn thành bản Luận án với đề tài “Nghiên cứu chế tạo vật liệu dẫn điện trong suốt và vật liệu hấp thụ ánh sáng nhằm sử dụng trong pin mặt trời CZTSe”.
Qua bản luận án này, tôi xin được gửi lời cảm ơn sâu sắc tới PGS. Nguyễn Duy Cường và TS. Nguyễn Hữu Dũng, những người Thầy đã giúp đỡ, hướng dẫn tôi trong suốt thời gian nghiên cứu và trong quá trình thực hiện luận án. Tôi xin gửi lời cảm ơn tập thể các Thầy, Cô giảng viên trong Viện Tiên Tiến Khoa học và Công nghệ, những người đã trực tiếp giảng dạy và trang bị cho tôi những kiến thức cơ bản về ngành khoa học Vật liệu Nano.
Tôi xin được gửi lời cảm ơn tới Ban Lãnh đạo trường Đại học Bách Khoa Hà Nội, Phòng Đào tạo, Viện Tiên tiến Khoa học và Công Nghệ (AIST) đã tạo điều kiện cho tôi được học tập và nghiên cứu tại cơ sở trong thời gian vừa qua. Tôi xin gửi lời cảm ơn tới Ban Lãnh đạo Trường Đại học Điện lực, Khoa Kỹ thuật điện đã tạo điều kiện thuận lợi để tôi được tập trung học tập và nghiên cứu. Tôi xin gửi lời cảm ơn tới các thành viên trong gia đình, các Anh - Chị - Em đồng nghiệp và Nghiên cứu sinh đã giúp đỡ về công việc cũng như động viên khích lệ tôi rất nhiều về mặt tinh thần để tôi có thể hoàn thành nhiệm vụ nghiên cứu của mình. Cuối cùng, tôi xin được gửi lời cảm ơn sự hỗ trợ kinh phí từ Quỹ phát triển Khoa học và Công nghệ Quốc gia (NAFOSTED) cho nghiên cứu này trong đề tài mã số “103.45” và sự hỗ trợ kinh phí từ nguồn học bổng 911 của Bộ Giáo dục và Đào tạo.
Xin trân trọng cảm ơn! Hà Nội, ngày 31 tháng 01 năm 2020 Tác giả NCS. Nguyễn Thị Thu Hiền iii MỤC LỤC LỜI CAM ĐOAN. ii MỤC LỤC. iii DANH MỤC KÍ HIỆU VÀ CHỮ VIẾT TẮT.
vii DANH MỤC BẢNG. x DANH MỤC HÌNH VẼ, ĐỒ THỊ. xi MỞ ĐẦU. Lý do chọn đề tài.
Mục tiêu của luận án. Đối tượng và phạm vi nghiên cứu. Nội dung nghiên cứu. Phương pháp nghiên cứu.
Ý nghĩa khoa học và thực tiễn của luận án. Những đóng góp mới của luận án. Bố cục của luận án. 7 CHƯƠNG 1 TỔNG QUAN VỀ PIN MẶT TRỜI CZTSe .1 Giới thiệu chung .2 Pin mặt trời CZTSe .1 Nguyên lý hoạt động của pin mặt trời CZTSe .2 Cấu trúc – chức năng cơ bản các lớp trong pin mặt trời CZTSe .2 Lớp chống phản xạ .3 Lớp điện cực cửa sổ .5 Lớp hấp thụ ánh sáng.3 Giản đồ năng lượng của pin mặt trời CZTSe .3 Vật liệu hấp thụ ánh sáng CZTSe .1 Cấu trúc tinh thể CZTSe .2 Tính chất quang – điện của vật liệu CZTSe .1 Độ hấp thụ ánh sáng……………………………………………………….2 Độ rộng vùng cấm của vật liệu CZTSe…………………………………….3 Sự phụ thuộc của tính chất vật liệu vào thành phần của CZTSe……………24 1.3 Vật liệu CZTSe nghèo Đồng .4 Vật liệu dẫn điện trong suốt truyền qua .1 Tính chất quang – điện của vật liệu dẫn điện trong suốt .2 Điện cực dẫn điện trong suốt ứng dụng cho pin mặt trời .5 Giới thiệu các phương pháp chế tạo màng mỏng .1 Pin mặt trời chế tạo dựa trên điều kiện chân không .1 Pin mặt trời chế tạo dựa trên phương pháp phún xạ……………………….2 Pin mặt trời chế tạo dựa trên phương pháp bốc bay…………………………32 1.3 Pin mặt trời chế tạo dựa trên phương pháp lắng đọng xung laser………….2 Pin mặt trời chế tạo dựa trên điều kiện không chân không .1 Pin mặt trời chế tạo dựa trên phương pháp phun phủ nhiệt……………….2 Pin mặt trời chế tạo dựa trên phương pháp lắng đọng điện hóa……………34 1.3 Pin mặt trời chế tạo dựa trên phương pháp Sol – gel………………………35 1.4 Pin mặt trời chế tạo dựa trên dung dịch chứa hạt nano………………………36 CHƯƠNG 2 NGHIÊN CỨU CHẾ TẠO LỚP VẬT LIỆU DẪN ĐIỆN TRONG SUỐT .1 Chế tạo lớp điện cực cửa sổ ITO bằng phương pháp phún xạ .1 Hệ phún xạ sử dụng để chế tạo lớp điện cực cửa sổ ITO .2 Chế tạo màng ITO bằng phương pháp phún xạ .1 Màng ITO được phún xạ với nồng độ O2 khác nhau: .2 Màng ITO được phún xạ với nhiệt độ đế khác nhau .3 Kết luận về chế tạo màng ITO .2 Chế tạo lớp điện cực cửa sổ AgNW/ITO bằng phương pháp in gạt .1 Phương pháp in gạt và quy trình chế tạo lớp điện cực cửa sổ AgNW/ITO .2 Phân tích kết quả tạo màng AgNW/ITO .1 Ảnh FESEM bề mặt màng AgNW/ITO .3 Phổ truyền qua của màng AgNW/ITO .4 Thử nghiệm trên pin mặt trời CZTSSe (CZTS) .3 Kết luận về màng AgNW/ITO.
53 CHƯƠNG 3 TỔNG HỢP HẠT NANO Cu(Zn,Sn)Se2 CHO ỨNG DỤNG LÀM LỚP HẤP THỤ ÁNH SÁNG TRONG PIN MẶT TRỜI CZTSe .1 Giới thiệu tổng hợp hạt nano CZTSe .2 Phương pháp phun nóng .3 Quy trình tổng hợp hạt nano CZTSe .4 Phân tích kết quả tổng hợp hạt nano CZTSe .1 Tổng hợp hạt nano CZTSe ở các nhiệt độ khác nhau .1 Ảnh FESEM và Phổ EDX .2 Tổng hợp hạt nano CZTSe theo tỉ lệ tiền chất khác nhau .1 Ảnh FESEM và Phổ EDX .3 Tổng hợp hạt nano CZTSe với các tốc độ phun dung dịch Se khác nhau .1 Ảnh FESEM và Phổ EDX .4 Kết quả thu được trên các mẫu lặp lại .5 Kết luận về tổng howph hạt nano. 73 CHƯƠNG 4 NGHIÊN CỨU CHẾ TẠO LỚP HẤP THỤ ÁNH SÁNG CZTSe VÀ TẾ BÀO PIN MẶT TRỜI .1 Nghiên cứu quá trình chế tạo màng CZTSe làm lớp hấp thụ ánh sáng trong pin mặt trời.1 Giới thiệu phương pháp nghiên cứu .2 Phương pháp in gạt chế tạo lớp hấp thụ ánh sáng CZTSe .1 In gạt tạo màng tiền chất CZTSe .2 Xử lý màng CZTSe ở nhiệt độ cao tạo lớp hấp thụ ánh sáng. 78 a) Quy trình xử lý nhiệt màng CZTSe trong môi trường khí N2….…………………78 b) Xác định điều kiện xử lý nhiệt màng CZTSe trong môi trường khí N 2………….3 Kết quả chế tạo màng CZTSe .1 Màng CZTSe theo nhiệt độ. 80 a) Chế tạo màng ở nhiệt độ khác nhau trong môi trường N2, không có hơi Selen.
80 b) Chế tạo màng ở các nhiệt độ khác nhau trong môi trường N2, có hơi Selen…….2 Màng CZTSe theo lượng hơi Se khác nhau .3 Màng CZTSe theo thời gian xử lý nhiệt khác nhau .4 Kết luận về chế tạo màng CZTSe .2 Nghiên cứu chế tạo pin mặt trời CZTSe hoàn chỉnh .1 Cấu trúc và phương pháp chế tạo các lớp trong pin mặt trời CZTSe hoàn chỉnh……………………………………………………………………………….2 Kết quả chế tạo pin mặt trời CZTSe hoàn chỉnh .3 Kết luận về chế tạo màng hấp thụ ánh sáng và pin mặt trời CZTSe. 91 KẾT LUẬN VÀ KIẾN NGHỊ. Kết luận chung về kết quả đạt được của luận án. Kiến nghị và đề xuất hướng nghiên cứu tiếp theo.
92 DANH MỤC CÁC CÔNG TRÌNH ĐÃ CÔNG BỐ CỦA LUẬN ÁN. 94 Tạp chí ISI. 94 Tạp chí trong nước. 94 TÀI LIỆU THAM KHẢO.
95 vii DANH MỤC KÍ HIỆU VÀ CHỮ VIẾT TẮT Stt Ký hiệu Tên tiếng Anh Tên tiếng Việt 1 EV Valence energy Năng lượng vùng hoá trị 2 EC Conduction energy Năng lượng vùng dẫn 3 Ef Fermi energy Năng lượng Fermi 4 Eg Energy band gap Độ rộng vùng cấm 5 FF Fill factor Hệ số điền đầy 6 e Electron Điện tử 7 h Hole Lỗ trống 8 ISC Short circuit current Cường độ dòng ngắn mạch 9 JSC Short circuit current density Mật độ dòng ngắn mạch 10 SLG Đế thủy tinh 11 VCB Valence Band Maximum Mức cao nhất của vùng hóa trị 12 CBM Conduction Band Minimum Mức thấp nhất của vùng dẫn 13 Rbềmặt Sheet resistance Điện trở bề mặt 14 T Transmitance Độ truyền qua 15 VOC Open circuit voltage Điện thế hở mạch 16 S Sulfide Lưu huỳnh 17 Se Selenium Selen 18 Resistivity Điện trở suất Conversion efficiency of the Hiệu suất chuyển đổi của pin 19 solar cell mặt trời 20 λ Wavelength Bước sóng 21 Ohm Đơn vị điện trở Ohm per square 22 /☐ Đơn vị điện trở bề mặt (Sheet Resistance Unit) Hệ số lan truyền ánh sáng trong 23 AM Air Mass khí quyển 24 AgNW Ag nano wires Màng dây nano Bạc viii 25 AgNW/ITO Ag nano wires/ Tinc Oxide Màng dây nano Bạc phủ ITO 26 AZO Aluminum-doped ZincOxide Oxít kẽm pha tạp nhôm 27 CBD Chemical Bath Deposition Phương pháp nhúng 28 CdS Cadmium sulfide 29 CIGSSe Cu(In,Ga)(S,Se)2 30 CIGS Cu(In,Ga)S2 31 CIS CuInS2 32 CZTSSe Cu(Zn,Sn)(S,Se)2 33 CZTSe Cu(Zn,Sn)Se2 34 CZTS Cu(Zn,Sn)S2 35 DC Direct Curent Dòng một chiều 36 EDX Energy Dispersive X-ray Tán sắc năng lượng tia X Field Emission Scanning Hiển vi điện tử quét phát xạ 37 FESEM Electron Microscope trường 38 FTO Fluorine-doped Tin Oxide Oxít thiếc pha tạp flo 39 ITO Indium Tin Oxide Oxít thiếc indium Joint Committee on Powder Ủy ban chung về tiêu chuẩn 40 JCPDS Diffraction Standards nhiễu xạ của vật liệu 41 MFC Mass Flow Controller Bộ điều khiển lưu lượng khí Standard Cubic Centimeters 42 sccm Đơn vị chuẩn cm3/ phút per Minute Đơn vị cường độ sáng 43 SUN SUN (100 mW/cm2) 44 RF Radio Frequecy Tần số radio Transparent Conducting 45 TCO Oxít dẫn điện trong suốt Oxide Máy quang phổ hấp thụ UV- 46 UV-VIS UV-VIS Spectrophotometer VIS 47 XRD X-ray diffraction Nhiễu xạ tia X 48 Mo Molypdenium Mo-lip-đen ix 49 ZnO Zinc Oxide Oxít kẽm Thermal Gravimetric 50 TGA Phân tích nhiệt trọng lượng Analysis 51 CdTe Cadmium Terillium 52 PLD Pulsed Laser Deposition Lắng đọng xung laze x DANH MỤC BẢNG Bảng 1.
Nội dung được bảo vệ bản quyền — Tải xuống đầy đủ
Trích dẫn luận án này
Nguyễn Thị Thu Hiền (2020). Nghiên cứu chế tạo vật liệu dẫn điện trong suốt và vật liệu [Luận án tiến sĩ, Trường Đại học Bách Khoa Hà Nội]. LuanAn.net. https://luanan.net/tai-lieu-khac/che-tao-vat-lieu-dan-dien-trong-suot-va-vat-lieu-hap-thu-anh-sang-nham-su-dung
Câu hỏi thường gặp
Luận án "Nghiên cứu chế tạo vật liệu dẫn điện trong suốt và vật liệu" nghiên cứu về vấn đề gì?
Luận án: Nghiên cứu chế tạo vật liệu dẫn điện trong suốt và vật liệu hấp thụ ánh sáng nhằm sử dụng trong pin mặt trời cztse luận án tiến sĩ. Xem tóm tắt và tải
Luận án "Nghiên cứu chế tạo vật liệu dẫn điện trong suốt và vật liệu" được bảo vệ tại trường nào?
Luận án này được bảo vệ tại Trường Đại học Bách Khoa Hà Nội. Năm bảo vệ: 2020.
Luận án "Nghiên cứu chế tạo vật liệu dẫn điện trong suốt và vật liệu" thuộc chuyên ngành gì?
Luận án "Nghiên cứu chế tạo vật liệu dẫn điện trong suốt và vật liệu" thuộc chuyên ngành Khoa học vật liệu. Danh mục: Tài liệu khác.
Luận án "Nghiên cứu chế tạo vật liệu dẫn điện trong suốt và vật liệu" có bao nhiêu trang?
Luận án "Nghiên cứu chế tạo vật liệu dẫn điện trong suốt và vật liệu" có 125 trang. Bạn có thể xem trước một phần tài liệu ngay trên trang web trước khi tải về.
Cách tải luận án "Nghiên cứu chế tạo vật liệu dẫn điện trong suốt và vật liệu" về máy như thế nào?
Để tải luận án về máy, bạn nhấn nút "Tải xuống ngay" trên trang này, sau đó hoàn tất thanh toán phí lưu trữ. File sẽ được tải xuống ngay sau khi thanh toán thành công. Hỗ trợ qua Zalo: 0559 297 239.