Nghiên cứu ảnh hưởng của lớp chức năng nano zno đến hoạt động của pin mặt trời m
Luận án: Nghiên cứu ảnh hưởng của lớp chức năng nano zno đến hoạt động của pin mặt trời màng mỏng glass tco nanozno cds cuins2 me lắng đọng bằng phương pháp usp
Luan An
Luận án tiến sĩ
Năm xuất bản
Số trang
138
Thời gian đọc
21 phút
Lượt xem
0
Lượt tải
0
Phí lưu trữ
40 Point
Tổng quan nhanh
- Chủ đề:
- 1. Tổng quan về pin mặt trời màng mỏng và vật liệu nano ZnO
- Số trang:
- 138 trang
- Trường:
- Đại học Bách khoa Hà Nội
- Chuyên ngành:
- Vật lý kỹ thuật
- Tác giả:
- Lưu Thị Lan Anh
- Năm:
- 2014
Tóm tắt nội dung luận án
I. Tổng quan về pin mặt trời màng mỏng và vật liệu nano ZnO
Pin mặt trời đại diện cho một nguồn năng lượng tái tạo quan trọng. Chúng khai thác hiệu ứng quang điện để sản xuất điện. Sự phát triển của pin mặt trời màng mỏng, đặc biệt là loại chalcopyrite, mang lại nhiều hứa hẹn. Cấu trúc pin màng mỏng giảm chi phí vật liệu. Đồng thời, chúng tăng cường tính linh hoạt. Vật liệu nano đã cách mạng hóa thiết kế pin mặt trời. Hạt nano ZnO nổi bật với các tính chất quang điện tử đặc biệt. Độ trong suốt cao và độ rộng vùng cấm rộng là những đặc điểm chính. Điều này giúp ZnO trở thành lựa chọn hàng đầu cho lớp chức năng. Luận án này tập trung vào lớp chức năng nano ZnO trong pin mặt trời màng mỏng phức hợp. Cấu trúc pin GLASS/TCO/NANO ZnO/CdS/CuInS2/Me được nghiên cứu sâu. Mục tiêu là hiểu rõ ảnh hưởng của lớp này đến hoạt động của pin. Từ đó, tối ưu hóa hiệu suất thiết bị.
1.1. Cơ sở vật lý pin mặt trời và hiệu ứng PV
Pin mặt trời hoạt động dựa trên hiệu ứng quang điện (PV). Ánh sáng mặt trời chiếu vào pin, tạo ra các cặp điện tử-lỗ trống. Điện trường bên trong pin sẽ tách chúng ra. Các điện tử di chuyển về một phía, lỗ trống về phía còn lại. Điều này tạo ra dòng điện. Pin mặt trời thường bao gồm một lớp bán dẫn loại p và một lớp bán dẫn loại n. Giữa chúng có một vùng tiếp giáp (phân biên p-n). Vùng này là nơi chủ yếu diễn ra quá trình tách hạt tải điện. Các thông số chính đánh giá pin gồm mật độ dòng ngắn mạch (JSC) và điện áp hở mạch (VOC). Hệ số điền đầy (FF) cũng quan trọng. Hiệu suất chuyển đổi (η) là thước đo cuối cùng. Các thông số này định hình đặc trưng J-V của pin.
1.2. Ưu điểm của pin mặt trời màng mỏng chalcopyrite
Pin mặt trời màng mỏng chalcopyrite sử dụng vật liệu hấp thụ CuInS2. Chúng có hệ số hấp thụ quang học cao. Điều này cho phép sử dụng lớp vật liệu rất mỏng. Giúp giảm chi phí sản xuất đáng kể. Cấu trúc màng mỏng cũng mang lại sự linh hoạt. Ứng dụng của chúng mở rộng ra nhiều lĩnh vực. Pin cấu trúc nano, một dạng của màng mỏng, cung cấp lợi thế lớn. Các hạt nano cải thiện khả năng thu ánh sáng. Chúng cũng tăng cường sự tách và vận chuyển hạt tải điện. Điều này dẫn đến hiệu suất chuyển đổi cao hơn. Đặc biệt, vật liệu nano tối ưu hóa giản đồ năng lượng của pin. Cấu hình pin mặt trời cấu trúc nano đa dạng, đáp ứng các yêu cầu kỹ thuật khác nhau.
1.3. Giới thiệu vật liệu kẽm oxit nano ZnO
Kẽm oxit nano (ZnO) là một vật liệu bán dẫn oxit kim loại quan trọng. Nó có vùng cấm rộng (khoảng 3.37 eV) và năng lượng liên kết exciton cao. Các hạt nano ZnO thể hiện tính chất quang điện tử độc đáo. Độ truyền qua ánh sáng cao trong vùng khả kiến. Đồng thời, nó có khả năng hấp thụ UV mạnh. ZnO cũng được biết đến với hoạt tính quang xúc tác. Điều này cho phép ứng dụng trong phân hủy chất ô nhiễm. Trong pin mặt trời, lớp chức năng nano ZnO đóng vai trò kép. Nó vừa là lớp cửa sổ trong suốt. Vừa là lớp vận chuyển điện tử hiệu quả. Lớp phủ nano ZnO giúp cải thiện hiệu suất pin. Nó tăng cường truyền ánh sáng đến lớp hấp thụ. Đồng thời, nó giảm thiểu tổn thất tái hợp tại giao diện. Biến đổi bề mặt của ZnO nano có thể điều chỉnh để tối ưu hóa tính chất.
II. Công nghệ lắng đọng lớp chức năng hạt nano ZnO hiệu quả
Việc chế tạo các lớp chức năng chất lượng cao là chìa khóa cho pin mặt trời hiệu suất. Luận án này tập trung vào công nghệ lắng đọng. Đặc biệt, phương pháp lắng đọng siêu âm bằng dung dịch (USPD) được sử dụng. Phương pháp này cho phép tạo ra các màng nano ZnO. Ưu điểm của USPD là đơn giản, tiết kiệm chi phí. Nó cũng kiểm soát tốt kích thước và hình thái hạt. Quá trình lắng đọng cần chuẩn bị hóa chất cẩn thận. Lựa chọn dung môi phù hợp là bước đầu tiên. Các yếu tố như nhiệt độ, nồng độ muối kẽm đều ảnh hưởng lớn. Chúng quyết định chất lượng và hoạt động của lớp phủ nano. Nghiên cứu cũng khảo sát ảnh hưởng của pha tạp Indium và Nhôm. Mục tiêu là cải thiện tính chất dẫn điện của lớp kẽm oxit nano.
2.1. Phương pháp lắng đọng màng nano ZnO USPD
Phương pháp USPD là kỹ thuật lắng đọng màng mỏng phổ biến. Nó dựa trên sự tạo thành các giọt siêu âm từ dung dịch tiền chất. Các giọt này sau đó được vận chuyển đến đế và lắng đọng. Quá trình này tạo ra lớp phủ nano đồng đều. Chuẩn bị hóa chất là bước quan trọng. Dung dịch tiền chất kẽm cần được pha chế chính xác. Các tham số của hệ lắng đọng được kiểm soát chặt chẽ. Điều này đảm bảo tính lặp lại của quá trình. Độ dày và cấu trúc của màng nano ZnO được điều chỉnh. Tùy thuộc vào thời gian lắng đọng và nhiệt độ. USPD cho phép sản xuất màng mỏng ZnO với chi phí thấp. Nó cũng mở ra tiềm năng cho sản xuất quy mô lớn.
2.2. Các yếu tố ảnh hưởng đến chất lượng lớp phủ nano ZnO
Nhiều yếu tố ảnh hưởng đến chất lượng của lớp phủ nano ZnO. Lựa chọn dung môi là một trong số đó. Dung môi ảnh hưởng đến độ hòa tan của tiền chất. Nó cũng tác động đến tốc độ phản ứng. Các anion trong dung dịch cũng có vai trò quan trọng. Chúng có thể ảnh hưởng đến tốc độ tăng trưởng của hạt nano ZnO. Nhiệt độ lắng đọng kiểm soát động học phản ứng. Nó cũng ảnh hưởng đến kích thước tinh thể và độ kết tinh của vật liệu nano. Loại đế cũng là một yếu tố cần xem xét. Các đế khác nhau có thể tạo ra các đặc tính màng khác nhau. Tốc độ lắng đọng và nồng độ muối kẽm cũng quyết định độ dày màng. Các nghiên cứu đã chỉ ra sự pha tạp Indium và Nhôm. Chúng cải thiện đáng kể tính chất điện của kẽm oxit nano.
2.3. Lắng đọng lớp hấp thụ CuInS2 và lớp đệm CdS
Ngoài lớp chức năng nano ZnO, các lớp khác cũng được lắng đọng. Lớp hấp thụ CuInS2 là thành phần chính của pin. Nó được chế tạo bằng phương pháp USPD. Quá trình này yêu cầu kiểm soát chặt chẽ tỷ lệ nguyên tố. Điều này đảm bảo tính chất quang điện tử tối ưu. Lớp đệm CdS cũng rất cần thiết. Nó nằm giữa lớp cửa sổ ZnO và lớp hấp thụ CuInS2. Lớp đệm CdS giúp giảm sự tái hợp hạt tải điện. Nó cải thiện quá trình tách hạt tại phân biên. Phương pháp USPD-ILGAR được sử dụng để lắng đọng CdS. Chuẩn bị hóa chất cho CdS cũng tương tự. Mỗi bước lắng đọng được tối ưu hóa riêng biệt. Mục tiêu là đạt được hiệu suất tối đa cho pin mặt trời.
III. Khảo sát phân biên ZnO CdS Vai trò biến đổi bề mặt
Hiểu rõ các giao diện giữa các lớp là rất quan trọng. Đặc biệt là phân biên ZnO/CdS và CdS/CuInS2. Chúng ảnh hưởng trực tiếp đến hoạt động của pin mặt trời. Nghiên cứu này sử dụng phương pháp phổ trở kháng phức (CIS). Phương pháp CIS giúp phân tích điện trở và điện dung của các lớp. Nó cung cấp thông tin chi tiết về các quá trình điện hóa. Các phân biên này thường là nơi xảy ra tái hợp hạt tải điện. Biến đổi bề mặt của các lớp chức năng có thể ảnh hưởng lớn. Việc tối ưu hóa các giao diện này là cần thiết. Nó giúp cải thiện hiệu suất thu thập hạt tải điện. Đồng thời giảm thiểu tổn thất năng lượng.
3.1. Phương pháp phổ trở kháng phức CIS cho vật liệu
Phổ trở kháng phức (CIS) là một kỹ thuật mạnh mẽ. Nó được dùng để nghiên cứu các đặc tính điện của vật liệu. Đặc biệt là các hệ đa lớp và giao diện. CIS đo phản ứng của vật liệu với một tín hiệu điện xoay chiều. Tín hiệu này có tần số quét rộng. Kết quả biểu diễn dưới dạng biểu đồ Nyquist hoặc Bode. Từ đó, người ta có thể xác định các mạch tương đương. Mạch này mô tả các quá trình điện xảy ra trong vật liệu. Ví dụ, điện trở, điện dung của các lớp. Nó cũng cho thấy điện trở tiếp xúc và điện trở ngắn mạch. Phương pháp này cung cấp thông tin quý giá. Nó giúp hiểu rõ hơn về các cơ chế dẫn điện và tái hợp.
3.2. Phân tích giao diện ZnO CdS và CdS CuInS2
Phân tích giao diện ZnO/CdS và CdS/CuInS2 là trọng tâm. Các mẫu pin mặt trời được chuẩn bị cẩn thận. Cấu trúc mẫu thường là Glass/ITO/nanoZnO/CdS/CuInS2/Ag. Phổ CIS được thực hiện trên các mẫu này. Dữ liệu phổ cho thấy đặc điểm của từng phân biên. Phân biên ZnO/CdS đóng vai trò quan trọng. Nó ảnh hưởng đến sự tách và vận chuyển điện tử. Phân biên CdS/CuInS2 cũng tương tự. Nó chi phối sự thu thập lỗ trống. Biến đổi bề mặt của lớp nano ZnO có thể điều chỉnh các đặc tính này. Mục tiêu là tối ưu hóa quá trình truyền tải hạt tải điện. Đồng thời, giảm thiểu sự tái hợp tại các vùng tiếp giáp.
3.3. Mô hình hóa hệ vật liệu pin mặt trời
Mô hình hóa là bước quan trọng sau khi thu thập dữ liệu CIS. Dữ liệu phổ CIS được phân tích bằng cách sử dụng các mô hình mạch tương đương. Mô hình này bao gồm các thành phần điện trở và điện dung. Mỗi thành phần đại diện cho một quá trình vật lý. Ví dụ, một điện trở có thể đại diện cho điện trở khối của vật liệu. Một tụ điện đại diện cho điện dung của giao diện. Mô hình hóa giúp xác định các thông số vật lý quan trọng. Chúng bao gồm điện trở tiếp xúc, điện trở nối tiếp và điện trở shunt. Nó cũng giúp lượng hóa các quá trình tái hợp hạt tải điện. Mô hình hóa hệ vật liệu Ag/ITO/ZnO/CdS/CuInS2/Ag cung cấp hiểu biết sâu sắc. Nó giúp tối ưu hóa thiết kế và cấu trúc pin.
IV. Thiết kế và chế tạo pin mặt trời cấu trúc nano ZnO
Thiết kế và chế tạo pin mặt trời cấu trúc nano là bước cuối cùng. Mục tiêu là tạo ra thiết bị với hiệu suất cao. Quá trình này bao gồm mô hình hóa số và mô phỏng. Sau đó là chế tạo thực tế trong phòng thí nghiệm. Việc lựa chọn cấu trúc pin là rất quan trọng. Cấu trúc Glass/ITO/nanoZnO/CdS/CuInS2/Me được xem xét kỹ lưỡng. Lớp chức năng nano ZnO đóng vai trò cửa sổ. Nó cũng là lớp vận chuyển điện tử. Ảnh hưởng của chiều dày lớp hấp thụ CuInS2 được nghiên cứu. Đặc biệt, vai trò của lớp cửa sổ nano ZnO được đánh giá chi tiết. Điều này giúp tối ưu hóa hiệu suất quang điện của thiết bị.
4.1. Mô hình hóa và mô phỏng pin mặt trời cấu trúc lớp
Mô hình hóa số là công cụ thiết yếu trong thiết kế pin mặt trời. Chương trình mô phỏng SCAPS được sử dụng rộng rãi. SCAPS (Solar Cell Capacitance Simulator) giúp dự đoán hiệu suất. Nó cho phép mô phỏng hoạt động của pin dưới các điều kiện khác nhau. Các thông số vật liệu như độ rộng vùng cấm. Độ dẫn điện, và thời gian sống hạt tải điện được nhập vào. Mô hình hóa giúp lựa chọn cấu trúc pin tối ưu. Nó cũng dự đoán ảnh hưởng của các lớp chức năng khác nhau. Việc thiết kế pin mặt trời màng mỏng cấu trúc nano được thực hiện trên SCAPS. Điều này giảm thiểu số lượng thử nghiệm thực tế. Nó tiết kiệm thời gian và chi phí nghiên cứu.
4.2. Quy trình chế tạo pin mặt trời màng mỏng ZnO
Quy trình chế tạo pin mặt trời màng mỏng gồm nhiều bước. Bước đầu tiên là chuẩn bị đế Glass/ITO. Sau đó, lớp chức năng nano ZnO được lắng đọng bằng USPD. Tiếp theo là lớp đệm CdS bằng USPD-ILGAR. Cuối cùng, lớp hấp thụ CuInS2 được lắng đọng. Các lớp kim loại tiếp xúc (Me) cũng được lắng đọng. Mỗi bước trong quy trình chế tạo đều được kiểm soát chặt chẽ. Điều này đảm bảo chất lượng và độ lặp lại của mẫu. Các điều kiện lắng đọng đã được tối ưu trong chương 2. Việc chế tạo pin mặt trời cấu trúc Glass/ITO/nanoZnO/CdS/CuInS2/Me là phức tạp. Nó đòi hỏi sự chính xác cao để đạt được hiệu suất mong muốn.
4.3. Đánh giá hiệu suất và ảnh hưởng của lớp nano ZnO
Sau khi chế tạo, pin mặt trời được đánh giá đặc trưng quang điện. Các phép đo J-V dưới chiếu sáng được thực hiện. Các thông số như JSC, VOC, FF và η được xác định. Ảnh hưởng của chiều dày lớp hấp thụ CuInS2 là yếu tố quan trọng. Chiều dày tối ưu sẽ cho phép hấp thụ ánh sáng hiệu quả. Đồng thời, nó giảm thiểu tái hợp trong khối. Vai trò của lớp cửa sổ nano ZnO được đánh giá kỹ lưỡng. Lớp nano ZnO tối ưu hóa sự truyền ánh sáng. Nó cũng cải thiện quá trình vận chuyển điện tử. Kết quả cho thấy lớp chức năng hạt nano ZnO ảnh hưởng lớn đến hoạt động. Nó nâng cao đáng kể hiệu suất chuyển đổi của pin mặt trời màng mỏng.
Tải xuống file đầy đủ để xem toàn bộ nội dung
Tải đầy đủ (138 trang)Trích đoạn nội dung luận án
Tải xuống để đọc toàn bộBỘ GIÁO DỤC VÀ ĐÀO TẠO TRƯỜNG ĐẠI HỌC BÁCH KHOA HÀ NỘI LƯU THỊ LAN ANH NGHIÊN CỨU ẢNH HƯỞNG CỦA LỚP CHỨC NĂNG NANO ZnO ĐẾN HOẠT ĐỘNG CỦA PIN MẶT TRỜI MÀNG MỎNG GLASS/TCO/NANO ZnO/CdS/CuInS2/Me Chuyên ngành: Vật lý kỹ thuật Mã số: 62520401 LUẬN ÁN TIẾN SĨ VẬT LÝ KỸ THUẬT Hà Nội - 2014 BỘ GIÁO DỤC VÀ ĐÀO TẠO TRƯỜNG ĐẠI HỌC BÁCH KHOA HÀ NỘI LƯU THỊ LAN ANH NGHIÊN CỨU ẢNH HƯỞNG CỦA LỚP CHỨC NĂNG NANO ZnO ĐẾN HOẠT ĐỘNG CỦA PIN MẶT TRỜI MÀNG MỎNG GLASS/TCO/NANO ZnO/CdS/CuInS2/Me Chuyên ngành: Vật lý kỹ thuật Mã số: 62520401 LUẬN ÁN TIẾN SĨ VẬT LÝ KỸ THUẬT NGƯỜI HƯỚNG DẪN KHOA HỌC: GS.TS Võ Thạch Sơn Hà Nội - 2014 1 Mục lục Danh mục ký hiệu và chữ viết tắt. 4 Danh mục các bảng. 7 Danh mục các hình vẽ, đồ thị .12 CHƢƠNG I TỔNG QUAN TÀI LIỆU .1 Năng lƣợng mặt trời - nguồn năng lƣợng của tƣơng lai .2 Hiệu ứng PV (PhotoVoltaic Effect) và linh kiện quang điện sử dụng hiệu ứng PV.3 Cơ sở vật lý của pin mặt trời .1 Nguyên lý hoạt động .2 Đặc trƣng J-V.4 Pin mặt trời màng mỏng chalcopyrite .1 Cấu trúc của pin mặt trời màng mỏng chalcopyrite.2 Vật liệu chalcopyrite.5 Pin mặt trời màng mỏng cấu trúc nano .1 Các tính chất cơ bản của vật liệu cấu trúc nano.2 Giản đồ năng lƣợng của pin mặt trời cấu trúc nano .3 Các cấu hình pin mặt trời cấu trúc nano .6 Vật liệu kẽm oxide (ZnO) .1 Vật liệu ZnO.2 Công nghệ lắng đọng các lớp chức năng của pin mặt trời. 41 Kết luận chƣơng .45 CHƢƠNG 2 NGHIÊN CỨU CÔNG NGHỆ LẮNG ĐỌNG CÁC LỚP CHỨC NĂNG TRONG CẤU TRÚC PMT MÀNG MỎNG .1 Nghiên cứu lắng đọng màng nano ZnO bằng phƣơng pháp USPD .1 Chuẩn bị hóa chất .2 Lắng đọng màng nano ZnO .2 Kết quả và thảo luận .1 Lựa chọn dung môi .2 Ảnh hƣởng của các anion .3 Ảnh hƣởng của nhiệt độ lắng đọng .4 Ảnh hƣởng của loại đế .5 Ảnh hƣởng của tốc độ lắng đọng.6 Ảnh hƣởng của nồng độ muối kẽm.7 Ảnh hƣởng của sự pha tạp In và Al .2 Nghiên cứu lắng đọng lớp hấp thụ CuInS2 bằng phƣơng pháp USPD.1 Chuẩn bị hóa chất .2 Lắng đọng màng CuInS2 .3 Kết quả và thảo luận .3 Nghiên cứu lắng đọng lớp đệm CdS bằng phƣơng pháp USPD-ILGAR .1 Tại sao lại cần lớp đệm trong pin mặt trời màng mỏng.3 Lắng đọng lớp đệm nano CdS bằng phƣơng pháp USPD-ILGAR .1 Chuẩn bị hóa chất .4 Kết quả và Thảo luận.
79 CHƢƠNG 3 KHẢO SÁT CÁC PHÂN BIÊN ZnO/CdS VÀ CdS/CuInS2 BẰNG PHƢƠNG PHÁP PHỔ TRỞ KHÁNG PHỨC CIS .1 Phƣơng pháp phổ trở kháng phức CIS.2 Ứng dụng phƣơng pháp phổ trở kháng phức để nghiên cứu các linh kiện cấu trúc lớp .1 Chuẩn bị mẫu .2 Khảo sát các phân biên ZnO/CdS và CdS/CuInS2 .4 Kết quả và thảo luận .1 Khảo sát phổ CIS của hệ vật liệu Glass/ITO/nanoZnO/CdS/CuInS2/Ag .2 Mô hình hóa hệ vật liệu Ag/ITO/ZnO/CdS/CuInS2/Ag .90 Kết luận chƣơng. 100 CHƢƠNG 4 THIẾT KẾ VÀ CHẾ TẠO THỬ NGHIỆM PIN MẶT TRỜI CẤU TRÚC NANO HỆ GLASS/ITO/nanoZnO/CdS/CuInS2 .1 Thiết kế pin mặt trời cấu trúc lớp kiểu Glass/ITO/nanoZnO/CdS/CuInS2/Me… …….1 Mô hình số .2 Chƣơng trình mô phỏng SCAPS .3 Thiết kế pin mặt trời màng mỏng cấu trúc nano .1 Lựa chọn cấu trúc .2 Chế tạo pin mặt trời màng mỏng cấu trúc Glass/ ITO/nanoZnO/CdS/CuInS2/Me .1 Đặc trƣng quang điện của pin mặt trời màng mỏng hệ Glass/ITO/nanoZnO/CdS/CuInS2 .1 Ảnh hƣởng của chiều dày lớp hấp thụ CuInS2 .2 Ảnh hƣởng của lớp cửa sổ nano ZnO. 118 3 Kết luận chƣơng. 121 TÀI LIỆU THAM KHẢO.
122 Danh mục các công trình đã công bố của Luận án. 134 Phụ lục……………………………………………………………………………… ……134 4 Danh mục ký hiệu và chữ viết tắt Danh mục các ký hiệu Ký hiệu Tên tiếng Anh Tên tiếng Việt A Quality factor Hệ số phẩm chất D Average crystallite size Kích thƣớc tinh thể trung bình E Energy Năng lƣợng e Electron Điện tử EA Ionization energy Năng lƣợng ion hóa EC Conduction band energy Năng lƣợng vùng dẫn EF Fermi energy Năng lƣợng Fermi Eg Optical band gap energy Độ rộng vùng cấm quang EV Valence band energy Năng lƣợng đỉnh vùng hoá trị ff fill factor Hệ số điền đầy h Hole Lỗ trống J Current density Mật độ dòng Current density at maximum power Jmax Mật độ dòng ở công suất ra cực đại output JSC Short circuit current density Mật độ dòng ngắn mạch R Resistance between the contacts Điện trở tiếp xúc RS Serial resistance Điện trở nối tiếp Rsh Shunt resistance Điện trở ngắn mạch Rsheet Sheet resistance Điện trở bề mặt t Time Thời gian T Transmitance Độ truyền qua TA Absolute temperature Nhiệt độ tuyệt đối TC Calcined temperature Nhiệt độ ủ 5 Nhiệt độ làm việc, nhiệt độ môi Te Enviromental temperature trƣờng TS Substrate temperature Nhiệt độ đế V Voltage Điện áp Vmax Voltage at maximum power output Điện áp ở công suất ra cực đại VOC Open circuit voltage Điện áp hở mạch Absorption coefficient Hệ số hấp thụ Thickness Chiều dày Conversion efficiency of the solar cell Hiệu suất chuyển đổi của pin mặt trời λ Wavelength Bƣớc sóng λex Excitation wavelength Bƣớc sóng kích thích e Electron mobility Độ linh động điện tử p Hole mobility Độ linh động lỗ trống Resistivity Điện trở suất 6 Danh mục các chữ viết tắt Ký hiệu Tên tiếng Anh Tên tiếng Việt AFM Atomic Force Microscope Hiển vi lực nguyên tử CBD Chemical Bath Deposition Lắng đọng bể hóa học CH Chacopyrite structure Cấu trúc Chacopyrite CIS Complex Impedance Spectroscopy Phổ trở kháng phức CVD Chemical vapour deposition Lắng đọng từ pha hơi hóa học EDX Energy Dispersive X-ray Tán sắc năng lƣợng tia X ETA Extremely thin absorber Chất hấp thụ chiều dày rất mỏng Field Emission Scanning Electron FESEM Hiển vi điện tử quét phát xạ trƣờng Microscope FTO Tin oxide doped Fluorine Ôxit thiếc pha tạp Flo FWHM Full width at half maximum Độ rộng bán cực đại ILGAR Ion Layer Gas Reaction Phản ứng pha khí lớp ion ITO Tin oxide doped Indium Ôxit thiếc pha tạp Indi IZO Zinc oxide doped Indium Ôxit kẽm pha tạp Indi PV Photovoltaic Effect Hiệu ứng quang điện PMT Solar cells Tế bào mặt trời SCAPS- Solar Cell CAPacitance Simulator in CAP-mô phỏng một chiều pin mặt 1D 1 Dimension trời SEM Scanning Electron Microscope Hiển vi điện tử quét SPD Spray Pyolysis Deposition Phun phủ nhiệt phân TCO Transparent conducting oxide Ôxít dẫn điện trong suốt USPD Ultrasonic Spray Pyolysis Deposition Phun phủ nhiệt phân hỗ trợ siêu âm UV-VIS UV-VIS Spectrophotometer Máy quang phổ hấp thụ UV-VIS XRD X-ray diffraction Nhiễu xạ tia X 7 Danh mục các bảng Bảng 1.1 Dự báo công suất năng lượng tái tạo năm 2030-2035 và năm 2050 [143] .2 Các thông số đặc trưng của PMT CuInS2 lý tưởng và PMT CuInS2 thực đạt hiệu suất cao nhất hiện nay [71],[153] .3 Một số tính chất vật lý của vật liệu ZnO .1 Bảng tóm tắt các phương pháp sử dụng để khảo sát các lớp chức năng .2 Danh mục các hóa chất sử dụng.3 Trị số đường kính aerosol phụ thuộc loại dung môi .4 Các kiểu dao động của màng nano ZnO .5 Các thông số kích thước màng ZnO phụ thuộc nhiệt độ lắng đọng .6 Hàm lượng của các nguyên tố trong các mẫu .7 Thông số điện của các mẫu .8 Danh mục hóa chất sử dụng .9 Các thông số cấu trúc và kích thước tinh thể của các mẫu CIS-06, CIS-08, CIS-12, CIS-21 và CIS-26 .10 Thành phần các nguyên tố trong các mẫu CIS-06, CIS-08, CIS-12, CIS-21, CIS-26 .11 Các thông số điện của mẫu lắng đọng với chiều dày khác nhau .12 Danh mục hóa chất sử dụng .13 Các thông số điện của các mẫu CdS lắng đọng .1 Số liệu mô phỏng theo sơ đồ tương đương của hệ vật liệu Glass/ITO/nanoZnO/CdS/CuInS2/Ag .1 Các thông số đầu vào mô phỏng ảnh hưởng của nhiệt độ Te .2 Kết quả mô phỏng theo nhiệt độ Te.3 Thông số cơ bản đầu vào mô phỏng .4 Các thông số của PMT mô phỏng bằng SCAPS-1D khi chiều dày lớp hấp thụ thay đổi .5 Các thông số quang điện của pin mặt trời mô phỏng bằng SCAPS-1D .6 Các thông số quang điện của pin mặt trời với chiều dày lớp hấp thụ khác nhau .7 Các thông số đầu vào mô phỏng sử dụng trong trường hợp so sánh với mẫu thực nghiệm .8 So sánh thông số của mẫu thực nghiệm PMT -10 và mẫu mô phỏng M05 .9 Các thông số quang điện của pin mặt trời với nồng độ muối kẽm acetat khác nhau .119 8 Danh mục các hình vẽ, đồ thị Hình 1.1 Xu hướng tiêu thụ năng lượng toàn cầu từ 1990 đến 2040 [16] .2 Công suất các nguồn năng lượng tái tạo trong những năm gần đây (1) Năng lượng tái tạo hydro, (2) năng lượng gió, (3) năng lượng sinh khối, (4) năng lượng mặt trời, (5) năng lượng địa nhiệt [130] .3 Sự phát triển của các thế hệ pin mặt trời [17].4 Sơ đồ minh họa nguyên lý hoạt động của pin mặt trời .5 Cấu trúc một chiều của PMT chuyển tiếp PN đồng chất.6 Đồ thị mật độ dòng ngắn mạch Jsc phụ thuộc vào độ rộng vùng cấm Eg [9], [172] .7 Đồ thị điện áp hở mạch Voc phụ thuộc vào .8 Đồ thị hiệu suất quang điện phụ thuộc.9 Đặc trưng J-V của PMT trong điều kiện trong tối và chiếu sáng [89] .10 Sơ đồ tương đương của PMT thực [183][180].11 Đồ thị phụ thuộc ảnh hưởng của các điện trở lên đặc trưng J-V sáng [180],[128],[89] a)Ảnh hưởng của RS b) Ảnh hưởng của Rsh .12 Cấu trúc PMT màng mỏng chalcopyrite [11] .13 Trạng thái điện tử của bán dẫn khối(a), tinh thể nhỏ(b) và phân tử(c) .14 Giản đồ năng lượng của các bán dẫn .15 Giản đồ năng lượng trong hai trường hợp (giả thiết rằng năng lượng vùng cấm của bán dẫn A lớn hơn bán dẫn B và các photon được hấp thụ trong B) .16 Giản đồ năng lượng của pin mặt trời cấu trúc nano .17 Sơ đồ các dạng cấu trúc của pin mặt trời cấu trúc nano.18 Cấu trúc tinh thể Wurtzite của vật liệu ZnO .19 Cấu trúc vùng năng lượng của hợp chất AIIBVI (a) và của ZnO (b) .20 Sơ đồ nguyên lý của phương pháp phun phủ nhiệt phân [95][160] .21 Sơ đồ khối hệ phun phủ nhiệt phân hỗ trợ siêu âm.22 Hệ thiết bị USPD kết hợp ILGAR .1 Cấu trúc pin mặt trời màng mỏng cấu trúc nano .2 Ảnh FESEM của các mẫu màng nano ZnO lắng đọng ở TS=420oC với các tỉ lệ thể tích của C3H7OH và nước (ảnh trái là độ phóng đại 100k, ảnh phải là độ phóng đại 25k) (a) VC3H7OH:VH2O = 3:3 (b) VC3H7OH:VH2O =3:2 (c) VC3H7OH:VH2O = 3:1 .3 Sự va chạm của các aerosol lên trên bề mặt đế nóng [144]. 4 Phổ tán xạ Raman của các mẫu màng nano ZnO lắng đọng ở TS=420oC .5 Kết quả tách phổ Raman thu được trong dải số sóng 300 ÷ 500 cm-1 bằng kỹ thuật tách phổ trên cơ sở phân bố Lorenzt .
Nội dung được bảo vệ bản quyền — Tải xuống đầy đủ
Trích dẫn luận án này
Lưu Thị Lan Anh (2014). Nghiên cứu ảnh hưởng của lớp chức năng nano zno đến hoạt độn [Luận án tiến sĩ, Trường Đại học Bách khoa Hà Nội]. LuanAn.net. https://luanan.net/tai-lieu-khac/anh-huong-cua-lop-chuc-nang-nano-zno-den-hoat-dong-cua-pin-mat-troi-mang-mong
Câu hỏi thường gặp
Luận án "Nghiên cứu ảnh hưởng của lớp chức năng nano zno đến hoạt độn" nghiên cứu về vấn đề gì?
Luận án: Nghiên cứu ảnh hưởng của lớp chức năng nano zno đến hoạt động của pin mặt trời màng mỏng glass tco nanozno cds cuins2 me lắng đọng bằng phương pháp usp
Luận án "Nghiên cứu ảnh hưởng của lớp chức năng nano zno đến hoạt độn" được bảo vệ tại trường nào?
Luận án này được bảo vệ tại Trường Đại học Bách khoa Hà Nội. Năm bảo vệ: 2014.
Luận án "Nghiên cứu ảnh hưởng của lớp chức năng nano zno đến hoạt độn" thuộc chuyên ngành gì?
Luận án "Nghiên cứu ảnh hưởng của lớp chức năng nano zno đến hoạt độn" thuộc chuyên ngành Vật lý kỹ thuật. Danh mục: Tài liệu khác.
Luận án "Nghiên cứu ảnh hưởng của lớp chức năng nano zno đến hoạt độn" có bao nhiêu trang?
Luận án "Nghiên cứu ảnh hưởng của lớp chức năng nano zno đến hoạt độn" có 138 trang. Bạn có thể xem trước một phần tài liệu ngay trên trang web trước khi tải về.
Cách tải luận án "Nghiên cứu ảnh hưởng của lớp chức năng nano zno đến hoạt độn" về máy như thế nào?
Để tải luận án về máy, bạn nhấn nút "Tải xuống ngay" trên trang này, sau đó hoàn tất thanh toán phí lưu trữ. File sẽ được tải xuống ngay sau khi thanh toán thành công. Hỗ trợ qua Zalo: 0559 297 239.